O le vacuum ion plating (fa'apu'upu'u o le ion plating) o se tekinolosi fou mo togafitiga o luga lea na vave ona atia'e i le vaitau o le 1970, lea na fautuaina e DM Mattox o le Somdia Company i le Iunaite Setete i le 1963. E faasino i le faagasologa o le fa'aaogaina o le puna o le fa'amamago po'o le sputtering target e fa'amamago ai pe sputter ai le ata tifaga i le ea vacuum.
O le muamua o le faʻatupuina lea o le ausa uʻamea e ala i le faʻavevela ma le faʻapuna o le mea tifaga, lea e faʻa-ionized faʻatasi i le ausa uʻamea ma atomu neutral e maualuga le malosi i le avanoa plasma faʻasaʻolotoina o le kesi, ma oʻo atu i le substrate e fausia ai se ata tifaga e ala i le gaioiga o le fanua eletise; o le mea mulimuli e faʻaaogaina ai ions malolosi (Mo se faʻataʻitaʻiga, Ar +) e osofaʻia le pito i luga o le mea tifaga ina ia faʻa-ionized ai vaega sputtered i totonu o ions poʻo atomu neutral e maualuga le malosi e ala i le avanoa o le faʻasaʻolotoina o le kesi, ma iloa ai le pito i luga o le substrate e fausia ai se ata tifaga.
O lenei tusiga ua lomia e Guangdong Zhenhua, o se kamupani gaosi oloameafaigaluega ufiufi mo le mitiia o le ea
Taimi na lafoina ai: Mati-10-2023