Penyaduran ion vakum (pendekatan penyaduran ion) ialah teknologi rawatan permukaan baharu yang dibangunkan dengan pesat pada tahun 1970-an, yang dicadangkan oleh DM Mattox dari Syarikat Somdia di Amerika Syarikat pada tahun 1963. Ia merujuk kepada proses menggunakan sumber penyejatan atau sputtering sasaran untuk menyejat atau memercikkan bahan filem dalam suasana vakum.
Yang pertama adalah untuk menghasilkan wap logam dengan memanaskan dan menyejat bahan filem, yang sebahagiannya terion menjadi wap logam dan atom neutral bertenaga tinggi dalam ruang plasma pelepasan gas, dan mencapai substrat untuk membentuk filem melalui tindakan medan elektrik ;yang terakhir menggunakan ion bertenaga tinggi ( Contohnya, Ar+) mengebom permukaan bahan filem supaya zarah yang terpercik terionkan menjadi ion atau atom neutral bertenaga tinggi melalui ruang pelepasan gas, dan menyedari permukaan substrat untuk membentuk sebuah filem.
Artikel ini diterbitkan oleh Guangdong Zhenhua, pengeluarperalatan salutan vakum
Masa siaran: Mac-10-2023