Mạ ion chân không (gọi tắt là mạ ion) là một công nghệ xử lý bề mặt mới được phát triển nhanh chóng vào những năm 1970, do DM Mattox của công ty Somdia tại Hoa Kỳ đề xuất năm 1963. Nó đề cập đến quá trình sử dụng nguồn bay hơi hoặc mục tiêu bắn phá để làm bay hơi hoặc bắn phá vật liệu màng trong môi trường chân không.
Phương pháp thứ nhất tạo ra hơi kim loại bằng cách nung nóng và làm bay hơi vật liệu màng, sau đó hơi kim loại bị ion hóa một phần thành hơi kim loại và các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong không gian plasma phóng điện khí, và tiếp cận chất nền để tạo thành màng thông qua tác dụng của điện trường; phương pháp thứ hai sử dụng các ion năng lượng cao (ví dụ: Ar+) bắn phá bề mặt vật liệu màng sao cho các hạt bị bắn phá bị ion hóa thành ion hoặc các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong không gian phóng điện khí, và giúp tạo thành màng trên bề mặt chất nền.
Bài viết này được xuất bản bởi Guangdong Zhenhua, một nhà sản xuất củathiết bị phủ chân không
Thời gian đăng bài: 10/03/2023