Vakuum Ion Plating (Ion Plating fir kuerz) ass eng nei Uewerfläch Behandlung Technologie déi séier an den 1970er entwéckelt gouf, déi vum DM Mattox vun Somdia Company an den USA an 1963 proposéiert gouf. Et bezitt sech op de Prozess vun der Verdampfungsquell oder Sputtering Zil fir de Filmmaterial an der Vakuumatmosphär ze verdampen oder ze sputteren.
Dee fréiere soll Metalldamp generéieren andeems d'Filmmaterial erhëtzt an verdämpt gëtt, dat deelweis an Metalldamp an héichenergie neutral Atomer am Gasentladungsplasma Raum ioniséiert gëtt an de Substrat erreecht fir e Film duerch d'Aktioun vum elektresche Feld ze bilden. ;déi lescht benotzt héich-Energie-Ionen (Zum Beispill, Ar +) bombardéiert d'Uewerfläch vum Filmmaterial, sou datt d'Sputterpartikelen an Ionen oder héichenergesch neutral Atomer duerch de Raum vun der Gasentladung ioniséiert ginn an d'Uewerfläch vum Substrat realiséieren. e Film ze bilden.
Dësen Artikel gëtt vum Guangdong Zhenhua publizéiert, engem Hiersteller vunVakuum Beschichtung Ausrüstung
Post Zäit: Mar-10-2023