Pelapisan ion vakum (singkatan pelapisan ion) yaiku teknologi perawatan permukaan anyar sing dikembangake kanthi cepet ing taun 1970-an, sing diusulake dening DM Mattox saka Somdia Company ing Amerika Serikat ing taun 1963. Iki nuduhake proses nggunakake sumber penguapan utawa target sputtering kanggo nguap utawa nyembur bahan film ing atmosfer vakum.
Sing pertama yaiku ngasilake uap logam kanthi cara manasi lan nguap bahan film, sing sebagian terionisasi dadi uap logam lan atom netral energi tinggi ing ruang plasma pelepasan gas, lan tekan substrat kanggo mbentuk film liwat aksi medan listrik; sing terakhir nggunakake ion energi tinggi (Contone, Ar+) ngebom permukaan bahan film supaya partikel sing disemprotake terionisasi dadi ion utawa atom netral energi tinggi liwat ruang pelepasan gas, lan nyadari permukaan substrat kanggo mbentuk film.
Artikel iki diterbitake dening Guangdong Zhenhua, produsenperalatan lapisan vakum
Wektu kiriman: 10-Mar-2023