진공 이온 도금(Vacuum Ion Plating, 줄여서 이온 플레이팅)은 1963년 미국 Somdia Company의 DM Mattox가 제안한 1970년대에 급속히 발전한 새로운 표면 처리 기술입니다. 증착 소스를 사용하거나 스퍼터링하는 공정을 말합니다. 진공 분위기에서 필름 재료를 증발시키거나 스퍼터링합니다.
전자는 가스 방전 플라즈마 공간에서 부분적으로 금속 증기와 고 에너지 중성 원자로 이온화 된 필름 소재를 가열 증발시켜 금속 증기를 생성하고 전기장의 작용을 통해 기판에 도달하여 필름을 형성합니다. ;후자는 고에너지 이온(예: Ar+)을 사용하여 필름 재료의 표면에 충돌하여 스퍼터링된 입자가 가스 방전 공간을 통해 이온 또는 고에너지 중성 원자로 이온화되고 기판 표면을 구현합니다. 필름을 형성합니다.
이 기사는 제조업체인 Guangdong Zhenhua에서 발행한 것입니다.진공 코팅 장비
게시 시간: 2023년 3월 10일