Vacuüm-ionenplateren (kortweg ionenplateren) is een nieuwe oppervlaktebehandelingstechnologie die zich in de jaren zeventig snel ontwikkelde. De technologie werd in 1963 voorgesteld door DM Mattox van het bedrijf Somdia in de Verenigde Staten. Het betreft een proces waarbij een verdampingsbron of sputterdoelwit wordt gebruikt om filmmateriaal in een vacuümatmosfeer te verdampen of te sputteren.
De eerste methode genereert metaaldamp door het verhitten en verdampen van het filmmateriaal. Deze damp wordt gedeeltelijk geïoniseerd tot metaaldamp en hoogenergetische neutrale atomen in de plasmaruimte van de gasontlading, waarna deze via het elektrische veld het substraat bereikt en daar een film vormt. De tweede methode maakt gebruik van hoogenergetische ionen (bijvoorbeeld Ar+) die het oppervlak van het filmmateriaal bombarderen, waardoor de vrijgekomen deeltjes in de plasmaruimte van de gasontlading worden geïoniseerd tot ionen of hoogenergetische neutrale atomen, die vervolgens op het substraatoppervlak een film vormen.
Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua, een fabrikant vanvacuümcoatingapparatuur
Geplaatst op: 10 maart 2023