Vacuum ion plating (ion plating per cortu) hè una nova tecnulugia di trattamentu di a superficia chì hè sviluppata rapidamente in l'anni 1970, chì hè stata pruposta da DM Mattox di Somdia Company in i Stati Uniti in u 1963. Si riferisce à u prucessu di utilizà a fonte di evaporazione o sputtering. mira à evaporà o sputter u materiale di film in l'atmosfera di vacuum.
U primu hè di generà vapore di metallu scaldendu è evaporendu u materiale di film, chì hè parzialmente ionizatu in vapore di metallu è atomi neutri d'alta energia in u spaziu di plasma di scaricamentu di gas, è ghjunghje à u sustrato per furmà una film per l'azzione di u campu elettricu. ;l'ultime usa ioni d'alta energia (Per esempiu, Ar +) bombarda a superficia di u materiale di film in modu chì i particeddi sputtered sò ionizzati in ioni o atomi neutri d'alta energia à traversu u spaziu di u scaricamentu di gas, è realizà a superficia di u sustrato. per furmà un film.
Questu articulu hè publicatu da Guangdong Zhenhua, un fabricatore diequipaggiu di rivestimentu di vacuum
Tempu di Postu: Mar-10-2023