Pelapisan ion vakum (singgetanna pelapisan ion) nyaéta téknologi perlakuan permukaan anyar anu dimekarkeun gancang dina taun 1970-an, anu diusulkeun ku DM Mattox ti Somdia Company di Amérika Serikat dina taun 1963. Ieu nujul kana prosés ngagunakeun sumber penguapan atanapi target sputtering pikeun nguapkeun atanapi nyemburkeun bahan pilem dina atmosfir vakum.
Anu kahiji nyaéta pikeun ngahasilkeun uap logam ku cara manaskeun sareng nguapkeun bahan pilem, anu sabagian diionisasi kana uap logam sareng atom nétral énergi tinggi dina rohangan plasma pelepasan gas, teras ngahontal substrat pikeun ngabentuk pilem ngaliwatan aksi médan listrik; anu terakhir nganggo ion énergi tinggi (Contona, Ar+) ngabombardir permukaan bahan pilem supados partikel anu nyembur diionisasi kana ion atanapi atom nétral énergi tinggi ngalangkungan rohangan pelepasan gas, sareng ngawujudkeun permukaan substrat pikeun ngabentuk pilem.
Artikel ieu dipedalkeun ku Guangdong Zhenhua, produsénalat palapis vakum
Waktos posting: 10-Mar-2023