El revestiment d'ions al buit (abreviament el revestiment d'ions) és una nova tecnologia de tractament de superfícies que es va desenvolupar ràpidament a la dècada de 1970, que va ser proposada per DM Mattox de Somdia Company als Estats Units l'any 1963. Es refereix al procés d'utilitzar font d'evaporació o sputtering. objectiu per evaporar o escampar el material de la pel·lícula a l'atmosfera de buit.
El primer és generar vapor metàl·lic escalfant i evaporant el material de la pel·lícula, que s'ionitza parcialment en vapor metàl·lic i àtoms neutres d'alta energia a l'espai de plasma de descàrrega de gas, i arriba al substrat per formar una pel·lícula mitjançant l'acció del camp elèctric. ;aquest últim utilitza ions d'alta energia (per exemple, Ar +) bombardeja la superfície del material de la pel·lícula de manera que les partícules polveritzades s'ionitzen en ions o àtoms neutres d'alta energia a través de l'espai de la descàrrega de gas i realitzen la superfície del substrat. per formar una pel·lícula.
Aquest article està publicat per Guangdong Zhenhua, un fabricant deequips de recobriment al buit
Hora de publicació: 10-mar-2023