Као што сви знамо, полупроводник се дефинише као проводљивост између сувих проводника и изолатора, отпорност између метала и изолатора, која је обично на собној температури у опсегу од 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm. Последњих година, вакуумско премазивање полупроводника у великим компанијама за производњу полупроводника је све више на вишој позицији, посебно у неким великим развојним истраживачким методама интегрисаних система, као и у магнетоелектричним уређајима за конверзију, уређајима који емитују светлост и другим развојним радовима. Вакуумско премазивање полупроводника има важну улогу.
Полупроводници се карактеришу својим унутрашњим карактеристикама, температуром и концентрацијом нечистоћа. Вакуумски полупроводнички премазни материјали се разликују једни од других углавном по својим саставним једињењима. Отприлике сви су базирани на бору, угљенику, силицијуму, германијуму, арсену, антимону, телуру, јоду итд., а неки релативно мало на GaP, GaAs, lnSb итд. Постоје и неки оксидни полупроводници, као што су FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O итд.
Вакуумско испаравање, распршивање, јонско премазивање и друга опрема могу да врше вакуумско премазивање полупроводника. Ова опрема за премазивање се разликује по принципу рада, али све оне наносе полупроводнички материјал на подлогу, а што се тиче материјала подлоге, нема захтева да ли је полупроводник или не. Поред тога, премази са различитим електричним и оптичким својствима могу се припремити и дифузијом нечистоћа и јонском имплантацијом на површину полупроводничке подлоге у одређеном опсегу. Добијени танки слој се такође може обрадити као полупроводнички премаз уопште.
Вакуумско премазивање полупроводника је незаобилазан део електронике, било да је у питању за активне или пасивне уређаје. Са континуираним напретком технологије вакуумског премазивања полупроводника, постала је могућа прецизна контрола перформанси филма.
Последњих година, аморфни и поликристални премази су постигли брз напредак у производњи фотопроводних уређаја, обложених цеви са ефектом поља и високоефикасних соларних ћелија. Поред тога, због развоја вакуумског полупроводничког премаза и танког филма сензора, што такође значајно смањује тешкоће избора материјала и постепено поједностављује процес производње. Опрема за вакуумско полупроводничко премазивање постала је неопходно присуство за полупроводничке примене. Опрема се широко користи за полупроводничко премазивање камера, соларних ћелија, обложених транзистора, емисије поља, катодне светлости, емисије електрона, танкослојних сензорских елемената итд.
Линија за магнетронско распршивање је дизајнирана са потпуно аутоматским системом управљања, практичним и интуитивним интерфејсом човек-машина преко екрана осетљивог на додир. Линија је дизајнирана са комплетним функционалним менијем како би се постигло потпуно праћење статуса рада свих компоненти производне линије, подешавање параметара процеса, заштита рада и функције аларма. Читав електрични систем управљања је безбедан, поуздан и стабилан. Опремљена је горњом и доњом двостраном магнетронском метом за распршивање или једностраним системом за премазивање.
Опрема се углавном примењује на керамичке плоче, чип кондензаторе високог напона и друге подлоге, а главна подручја примене су електронске плоче.
Време објаве: 07.11.2022.