Vakuum-Ionenplating (kuerz Ionenplating) ass eng nei Uewerflächenbehandlungstechnologie, déi sech an den 1970er Joren séier entwéckelt huet a vum DM Mattox vun der Somdia Company an den USA am Joer 1963 proposéiert gouf. Et bezitt sech op de Prozess, bei deem eng Verdampfungsquell oder e Sputterziel benotzt gëtt, fir de Filmmaterial an der Vakuumatmosphär ze verdampfen oder ze sputteren.
Déi éischt Method besteet doran, Metalldamp ze generéieren, andeems de Filmmaterial erhëtzt a verdampft gëtt, wat deelweis a Metalldamp an héichenergetescht neutral Atomer am Gasentladungsplasmaraum ioniséiert gëtt an duerch d'Aktioun vum elektresche Feld de Substrat erreecht, fir e Film ze bilden; déi zweet Method benotzt héichenergetescht Ionen (zum Beispill Ar+) fir d'Uewerfläch vum Filmmaterial ze bombardéieren, sou datt déi gesputtert Partikelen duerch de Raum vun der Gasentladung a Ionen oder héichenergetescht neutral Atomer ioniséiert ginn, an d'Uewerfläch vum Substrat realiséieren, fir e Film ze bilden.
Dësen Artikel gouf vu Guangdong Zhenhua publizéiert, engem Hiersteller vunVakuumbeschichtungsanlagen
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 10. Mäerz 2023