Plakaj iyon vakyòm (abreje kòm plakaj iyon) se yon nouvo teknoloji tretman sifas ki te devlope rapidman nan ane 1970 yo, ke DM Mattox nan Konpayi Somdia Ozetazini te pwopoze an 1963. Li refere a pwosesis pou itilize yon sous evaporasyon oswa yon sib pulverizasyon pou evapore oswa pulveriza materyèl fim nan nan atmosfè vakyòm nan.
Premye a se pou jenere vapè metal lè yo chofe epi evapore materyèl fim nan, ki pasyèlman iyonize an vapè metal ak atòm net ki gen anpil enèji nan espas plasma egzeyat gaz la, epi rive nan substra a pou fòme yon fim atravè aksyon chan elektrik la; lèt la itilize iyon ki gen anpil enèji (Pa egzanp, Ar+) pou bonbade sifas materyèl fim nan pou patikil yo ka iyonize an iyon oswa atòm net ki gen anpil enèji nan espas egzeyat gaz la, epi reyalize sifas substra a pou fòme yon fim.
Atik sa a pibliye pa Guangdong Zhenhua, yon manifakti.ekipman pou kouvri ak vakyòm
Lè pòs la: 10 Mas 2023