Kao što svi znamo, definicija poluvodiča je da ima vodljivost između suhih vodiča i izolatora, te otpor između metala i izolatora, koji je obično na sobnoj temperaturi u rasponu od 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm. Posljednjih godina, vakuumsko prevlačenje poluvodiča u glavnim tvrtkama za poluvodiče, jasno je da njegov status sve više raste, posebno u nekim velikim integriranim sustavima razvoja krugova, istraživačkim metodama tehnologije magnetoelektrične pretvorbe, uređajima za emitiranje svjetlosti i drugim razvojnim radovima. Vakuumsko prevlačenje poluvodiča ima važnu ulogu.
Poluvodiče karakteriziraju njihove intrinzične karakteristike, temperatura i koncentracija nečistoća. Vakuumski poluvodički premazni materijali razlikuju se uglavnom po svojim sastavnim spojevima. Otprilike svi se temelje na boru, ugljiku, siliciju, germaniju, arsenu, antimonu, telurju, jodu itd., a relativno malo njih na GaP, GaAs, lnSb itd. Postoje i neki oksidni poluvodiči, kao što su FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O itd.
Vakuumsko isparavanje, raspršivanje, ionsko premazivanje i druga oprema mogu se koristiti za vakuumsko premazivanje poluvodiča. Ova oprema za premazivanje razlikuje se po principu rada, ali sve one nanose poluvodički materijal na podlogu, a što se tiče materijala podloge, nema uvjeta da li on može biti poluvodič ili ne. Osim toga, premazi s različitim električnim i optičkim svojstvima mogu se pripremiti difuzijom nečistoća i ionskom implantacijom na površinu poluvodičke podloge u određenom rasponu. Rezultirajući tanki sloj može se općenito obraditi kao poluvodički premaz.
Vakuumsko nanošenje poluvodičkih premaza neizostavno je u elektronici, bilo da se radi o aktivnim ili pasivnim uređajima. Kontinuiranim napretkom tehnologije vakuumskog nanošenja poluvodičkih premaza, postala je moguća precizna kontrola performansi filma.
Posljednjih godina, amorfni i polikristalni premazi brzo su napredovali u proizvodnji fotovodljivih uređaja, obloženih cijevi s efektom polja i visokoučinkovitih solarnih ćelija. Osim toga, zbog razvoja vakuumskog poluvodičkog premaza i tankog filma senzora, što također znatno smanjuje poteškoće odabira materijala i postupno pojednostavljuje proces proizvodnje. Oprema za vakuumsko poluvodičko premazivanje postala je neophodna za poluvodičke primjene. Oprema se široko koristi za poluvodičko premazivanje kamera, solarnih ćelija, obloženih tranzistora, emisije polja, katodnog svjetla, emisije elektrona, tankoslojnih senzorskih elemenata itd.
Linija za magnetronsko raspršivanje dizajnirana je s potpuno automatskim upravljačkim sustavom, praktičnim i intuitivnim sučeljem čovjek-stroj putem zaslona osjetljivog na dodir. Linija je dizajnirana s potpunim izbornikom funkcija kako bi se postiglo potpuno praćenje stanja rada svih komponenti proizvodne linije, postavljanje parametara procesa, zaštita rada i funkcije alarma. Cijeli električni upravljački sustav je siguran, pouzdan i stabilan. Opremljen je gornjom i donjom dvostranom metom za magnetronsko raspršivanje ili jednostranim sustavom za premazivanje.
Oprema se uglavnom primjenjuje na keramičke pločice, visokonaponske kondenzatore i druge podloge, a glavna područja primjene su elektroničke pločice.
Vrijeme objave: 07.11.2022.