Revestimento de ións ao baleiro

O revestimento de ións ao baleiro (denominado galvanoplastia iónica) foi proposto nos Estados Unidos en 1963 pola empresa Somdia DM Mattox, e na década de 1970 produciuse un rápido desenvolvemento dunha nova tecnoloxía de tratamento de superficies. Refírese ao uso dunha fonte de evaporación ou obxectivo de pulverización catódica nunha atmosfera de baleiro para que a evaporación ou pulverización catódica do material da película, evaporando ou pulverizando catódicamente unha parte das partículas no espazo de descarga de gas se ionice en ións metálicos.

Estas partículas deposítanse no substrato baixo a acción dun campo eléctrico para xerar un proceso de película delgada.

A galvanoplastia iónica ao baleiro, que adoita producirse segundo o material da membrana, divídese en dous tipos: galvanoplastia iónica de tipo fonte de evaporación e galvanoplastia iónica de tipo obxectivo de pulverización catódica. A primeira evapórase quentando o material da película para producir vapores metálicos, de xeito que se ioniza parcialmente en vapores metálicos e átomos neutros de alta enerxía no espazo do plasma de descarga de gas, que chega ao substrato mediante o campo eléctrico para xerar películas delgadas; a segunda consiste en usar ións de alta enerxía (por exemplo, Ar+) na superficie do material da película bombardeada para facer a pulverización catódica das partículas a través do espazo da descarga de gas ionizada en ións ou átomos neutros de alta enerxía, para chegar á superficie do substrato e xerar a película.

–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento ao baleiroGuangdong Zhenhua