En comparación co galvanoplastia por evaporación e o galvanoplastia por pulverización catódica, a característica máis importante do galvanoplastia iónica é que os ións enerxéticos bombardean o substrato e a capa de película mentres ten lugar a deposición. O bombardeo de ións cargados produce unha serie de efectos, principalmente os seguintes.
① Forza de unión membrana/base (adhesión) forte, a capa de película non se desprende facilmente debido ao bombardeo iónico do substrato xerado polo efecto de pulverización catódica, de xeito que o substrato se limpa, activa e quenta, non só para eliminar a adsorción do gas na superficie do substrato e a capa contaminada, senón tamén para eliminar os óxidos da superficie do substrato. O bombardeo iónico de quecemento e defectos pode ser causado polo efecto de difusión mellorado do substrato, tanto para mellorar as propiedades cristalinas da organización da capa superficial do substrato como para proporcionar as condicións para a formación de fases de aliaxe; e bombardeo iónico de maior enerxía, pero tamén produce unha certa cantidade de implantación de ións e efecto de mestura de feixe de ións.
② O revestimento iónico, debido a que produce unha boa radiación de derivación no caso de presións máis altas (maior ou igual a 1 Pa), permite que os ións ou moléculas de vapor ionizados se atopen con varias colisións na súa viaxe cara ao substrato antes de que as moléculas de gas atopen, polo que as partículas da película poden dispersarse polo substrato, mellorando así a cobertura da capa de película; e as partículas da película ionizada tamén se depositarán baixo a acción do campo eléctrico na superficie do substrato con tensión negativa en calquera posición na superficie do substrato con tensión negativa, o que non se pode conseguir mediante o revestimento por evaporación.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento ao baleiroGuangdong Zhenhua
Data de publicación: 12 de xaneiro de 2024