W porównaniu z naparowywaniem i napylaniem galwanicznym, najważniejszą cechą napylania jonowego jest to, że jony energetyczne bombardują podłoże i warstwę powłoki podczas osadzania. Bombardowanie jonami naładowanymi wywołuje szereg efektów, głównie następujących.
① Silna siła wiązania (adhezja) membrany z podłożem, warstwa filmu nie odpada łatwo z powodu bombardowania jonowego podłoża generowanego przez rozpylanie. Dzięki temu podłoże jest czyszczone, aktywowane i podgrzewane, nie tylko w celu usunięcia adsorpcji gazu na powierzchni podłoża i zanieczyszczonej warstwy, ale także w celu usunięcia tlenków z powierzchni podłoża. Bombardowanie jonowe, a także nagrzewanie, mogą powodować defekty spowodowane wzmożonym efektem dyfuzji podłoża, zarówno w celu poprawy właściwości krystalicznych struktury warstwy powierzchniowej podłoża, jak i zapewnienia warunków do tworzenia faz stopowych; bombardowanie jonami o wyższej energii, ale także powoduje pewną implantację jonów i efekt mieszania wiązki jonów.
② Powłoka jonowa, aby wytworzyć dobre promieniowanie omijające w przypadku wyższego ciśnienia (większego lub równego 1Pa), zjonizowane jony lub cząsteczki pary w swojej podróży do podłoża, zanim cząsteczki gazu napotkają szereg kolizji, dzięki czemu cząsteczki filmu mogą zostać rozproszone wokół podłoża, poprawiając w ten sposób pokrycie warstwy filmu; a zjonizowane cząsteczki filmu będą również osadzane pod działaniem pola elektrycznego na powierzchni podłoża o napięciu ujemnym. Każda pozycja na powierzchni podłoża o napięciu ujemnym, której nie można osiągnąć przez galwanizację parową,
– Artykuł ten został opublikowany przezproducent maszyn do powlekania próżniowegoGuangdong Zhenhua
Czas publikacji: 12 stycznia 2024 r.