Dibandhingake karo pelapisan penguapan lan pelapisan sputtering, fitur sing paling penting saka pelapisan ion yaiku ion energik ngebom substrat lan lapisan film nalika deposisi kedadeyan. Pemboman ion sing diisi ngasilake serangkaian efek, utamane kaya ing ngisor iki.
① Gaya ikatan membran/basa (adhesi) kuwat, lapisan film ora gampang tiba amarga pemboman ion saka substrat sing diasilake dening efek sputtering, saengga substrat diresiki, diaktifake lan digawe panas, ora mung kanggo mbusak adsorpsi gas ing permukaan substrat lan lapisan sing terkontaminasi, nanging uga kanggo mbusak permukaan oksida substrat. Pemboman ion saka pemanasan lan cacat bisa disebabake dening efek difusi substrat sing ditingkatake, loro-lorone kanggo ningkatake sifat kristal saka organisasi lapisan permukaan substrat, nanging uga nyedhiyakake kahanan kanggo pembentukan fase paduan; lan pemboman ion energi sing luwih dhuwur, nanging uga ngasilake jumlah tartamtu saka implantasi ion lan efek pencampuran sinar ion.
② Lapisan ion amarga ngasilake radiasi bypass sing apik ing kasus tekanan sing luwih dhuwur (luwih gedhe utawa padha karo 1Pa) yaiku ion uap utawa molekul sing terionisasi ing perjalanane menyang substrat sadurunge molekul gas bakal nemoni sawetara tabrakan, saengga partikel film bisa kasebar ing sekitar substrat, saengga nambah jangkoan lapisan film; lan partikel film terionisasi uga bakal diendapkan ing sangisore aksi medan listrik ing permukaan substrat kanthi voltase negatif. Posisi apa wae ing permukaan substrat kanthi voltase negatif, sing ora bisa digayuh kanthi pelapisan penguapan.
-Artikel iki diterbitake deningprodusen mesin lapisan vakumGuangdong Zhenhua
Wektu kiriman: 12 Januari 2024