Uiga ma le Fa'aoga o le Ufiufi Ion-Mataupu 1

Pe a faatusatusa i le evaporation plating ma le sputtering plating, o le vaega aupito taua o le ion plating o le osofaʻia lea e le energy ions le substrate ma le film layer aʻo faia le deposition. O le osofaʻia o ions ua molia e maua ai se faasologa o aafiaga, e pei ona taua i lalo.

① Malosi le malosi o le fusifusia o le membrane/base (pipii), e le faigofie ona pa'ū ese le vaega o le ata tifaga ona o le osofa'iga a le ion i le substrate e mafua mai i le sputtering effect, ina ia fa'amamāina, fa'agaoioia ma fa'avevela le substrate, e le gata ina aveese ai le adsorption o le kesi i luga o le substrate ma le vaega ua pisia, ae ia aveese fo'i le luga o le substrate oxides. O le osofa'iga a le Ion i le fa'avevela ma fa'aletonu e mafai ona mafua mai i le fa'aleleia atili o le aafiaga o le diffusion o le substrate, e fa'aleleia ai meatotino crystalline o le fa'atulagaga o le vaega o le substrate, ae maua ai fo'i tulaga mo le fausiaina o vaega o le alloy; ma le osofa'iga a le ion ion e sili atu le malosi, ae maua ai fo'i se aofa'i patino o le ion implantation ma le ion beam mixing effect.

② Ona o le ufiufi ion e maua ai le lelei o le faʻaseseina o le radiation i le tulaga o le mamafa maualuga (sili atu i le 1Pa pe tutusa) o le ionized ausa ions poʻo molecules i lana malaga i le substrate aʻo leʻi fetaiaʻi molecules kesi ma le tele o fetoʻai, o lea e mafai ai ona faʻasalalauina vaega o le ata tifaga i luga o le substrate, ma faʻaleleia atili ai le ufiufi o le vaega o le ata tifaga; ma o vaega o le ata tifaga ionized o le a teuina foʻi i lalo o le gaioiga o le fanua eletise i luga o le substrate ma le voltage leaga Soʻo se tulaga i luga o le substrate ma le voltage leaga, lea e le mafai ona ausia e ala i le ufiufiina o le ea.

–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua