Dibandingkeun sareng palapis penguapan sareng palapis sputtering, fitur anu paling penting tina palapis ion nyaéta ion énergi ngabombardir substrat sareng lapisan pilem nalika déposisi lumangsung. Panyemprotan ion anu dieusi ngahasilkeun sababaraha épék, utamina sapertos kieu.
① Gaya beungkeutan mémbran/basa (adhési) kuat, lapisan pilem henteu gampang murag kusabab pamboman ion substrat anu dihasilkeun ku éfék sputtering, supados substrat dibersihkeun, diaktipkeun sareng dipanaskeun, henteu ngan ukur pikeun miceun adsorpsi gas dina permukaan substrat sareng lapisan anu kacemar, tapi ogé pikeun miceun permukaan oksida substrat. Pamboman ion tina pemanasan sareng cacad tiasa disababkeun ku éfék difusi substrat anu ningkat, boh pikeun ningkatkeun sipat kristal tina organisasi lapisan permukaan substrat, tapi ogé nyayogikeun kaayaan pikeun ngabentuk fase paduan; sareng pamboman ion énergi anu langkung luhur, tapi ogé ngahasilkeun jumlah implantasi ion sareng éfék campuran sinar ion anu tangtu.
② Palapis ion kusabab ngahasilkeun radiasi bypassing anu saé dina kasus tekanan anu langkung luhur (langkung ageung atanapi sami sareng 1Pa) nyaéta ion uap atanapi molekul anu terionisasi dina perjalananna ka substrat sateuacan molekul gas bakal mendakan sababaraha tabrakan, janten partikel pilem tiasa sumebar di sakitar substrat, sahingga ningkatkeun panutupan lapisan pilem; sareng partikel pilem terionisasi ogé bakal disimpen dina tindakan medan listrik dina permukaan substrat kalayan tegangan négatip. Posisi naon waé dina permukaan substrat kalayan tegangan négatip, anu teu tiasa kahontal ku plating penguapan.
–Tulisan ieu dipedalkeun kuprodusén mesin palapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktos posting: 12-Jan-2024