Em comparação com a deposição por evaporação e a deposição por pulverização catódica, a característica mais importante da deposição iônica é o bombardeio de íons energéticos sobre o substrato e a camada de filme durante o processo de deposição. O bombardeio de íons carregados produz uma série de efeitos, principalmente os seguintes:
① A força de ligação membrana/base (adesão) é forte, a camada de filme não se desprende facilmente devido ao bombardeio iônico do substrato gerado pelo efeito de pulverização catódica, de modo que o substrato é limpo, ativado e aquecido, removendo não apenas a adsorção de gás na superfície do substrato e a camada contaminada, mas também os óxidos da superfície do substrato. O bombardeio iônico de aquecimento e defeitos pode ser causado pelo efeito de difusão aprimorado do substrato, melhorando as propriedades cristalinas da organização da camada superficial do substrato, mas também fornecendo as condições para a formação de fases de liga; e o bombardeio iônico de maior energia também produz uma certa quantidade de implantação iônica e efeito de mistura do feixe iônico.
② O revestimento iônico, devido à boa capacidade de gerar radiação de desvio em casos de alta pressão (maior ou igual a 1 Pa), consiste na ionização de íons ou moléculas de vapor em seu trajeto até o substrato, onde as moléculas de gás sofrem diversas colisões. Assim, as partículas do filme são dispersas ao redor do substrato, melhorando a cobertura da camada de filme. Além disso, as partículas ionizadas do filme são depositadas sob a ação do campo elétrico na superfície do substrato com tensão negativa, em qualquer posição na superfície do substrato com tensão negativa, o que não pode ser alcançado por deposição por evaporação.
–Este artigo foi publicado porfabricante de máquinas de revestimento a vácuoGuangdongZhenhua
Data da publicação: 12 de janeiro de 2024