Mae platio ïonau gwactod (platio ïonau yn fyr) yn dechnoleg trin arwyneb newydd a ddatblygwyd yn gyflym yn y 1970au, a gynigiwyd gan DM Mattox o Gwmni Somdia yn yr Unol Daleithiau ym 1963. Mae'n cyfeirio at y broses o ddefnyddio ffynhonnell anweddu neu darged chwistrellu i anweddu neu chwistrellu'r deunydd ffilm yn yr awyrgylch gwactod.
Y cyntaf yw cynhyrchu anwedd metel trwy gynhesu ac anweddu'r deunydd ffilm, sy'n cael ei ïoneiddio'n rhannol yn anwedd metel ac atomau niwtral egni uchel yn y gofod plasma rhyddhau nwy, ac yn cyrraedd y swbstrad i ffurfio ffilm trwy weithred y maes trydan; mae'r olaf yn defnyddio ïonau egni uchel (Er enghraifft, Ar+) i beledu wyneb y deunydd ffilm fel bod y gronynnau wedi'u chwistrellu yn cael eu ïoneiddio'n ïonau neu atomau niwtral egni uchel trwy ofod y rhyddhau nwy, ac yn sylweddoli bod wyneb y swbstrad yn ffurfio ffilm.
Cyhoeddir yr erthygl hon gan Guangdong Zhenhua, gwneuthurwr ooffer cotio gwactod
Amser postio: Mawrth-10-2023