A placcatura ionica à u vacuum (placcatura ionica in breve) hè una nova tecnulugia di trattamentu di a superficia chì si sviluppa rapidamente in l'anni 1970, chì hè stata pruposta da DM Mattox di Somdia Company in i Stati Uniti in u 1963. Si riferisce à u prucessu di utilizà una fonte d'evaporazione o un bersagliu di sputtering per evaporà o sputtering u materiale di a film in l'atmosfera di u vacuum.
U primu hè di generà vapore metallicu riscaldendu è evaporendu u materiale di u film, chì hè parzialmente ionizatu in vapore metallicu è atomi neutri d'alta energia in u spaziu di plasma di scarica di gas, è ghjunghje à u sustratu per furmà un film per via di l'azione di u campu elettricu; u secondu usa ioni d'alta energia (per esempiu, Ar+) bombarda a superficia di u materiale di u film in modu chì e particelle sputtered sò ionizate in ioni o atomi neutri d'alta energia attraversu u spaziu di a scarica di gas, è realizanu a superficia di u sustratu per furmà un film.
Questu articulu hè publicatu da Guangdong Zhenhua, un fabricatore diequipaggiamentu di rivestimentu à vuoto
Data di publicazione: 10 di marzu di u 2023