Phủ ion chân không (gọi tắt là mạ ion) là công ty Somdia DM Mattox của Hoa Kỳ đề xuất vào năm 1963, những năm 1970 đã phát triển nhanh chóng một công nghệ xử lý bề mặt mới. Nó đề cập đến việc sử dụng nguồn bốc hơi hoặc mục tiêu phun trong bầu khí quyển chân không để vật liệu màng bốc hơi hoặc phun, bốc hơi hoặc phun ra khỏi một phần các hạt trong không gian xả khí ion hóa thành các ion kim loại.
Các hạt này được lắng đọng trên chất nền dưới tác động của trường điện để tạo ra quá trình tạo màng mỏng.
Mạ ion chân không có nhiều loại, thông thường theo vật liệu màng để tạo ra nguồn ion sẽ được chia thành hai loại: mạ ion loại nguồn bốc hơi và mạ ion loại mục tiêu phun. Loại trước là bốc hơi bằng cách làm nóng vật liệu màng để tạo ra hơi kim loại, do đó nó được ion hóa một phần thành hơi kim loại và các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong không gian của plasma phóng điện khí, thông qua vai trò của trường điện để tiếp cận chất nền để tạo ra màng mỏng; loại sau là sử dụng các ion năng lượng cao (ví dụ: Ar +) trên bề mặt của vật liệu màng bắn phá để làm cho các hạt bắn ra ngoài thông qua không gian của khí phóng điện ion hóa thành các ion hoặc các nguyên tử trung tính năng lượng cao, để tiếp cận bề mặt của chất nền và tạo ra màng.
– Bài viết này được phát hành bởinhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng: 07-03-2024