① Teknolojia ya uwekaji wa boriti ya ioni ina sifa ya kushikamana kwa nguvu kati ya filamu na substrate, safu ya filamu ni kali sana. Majaribio yameonyesha kuwa: uwekaji wa boriti ya ioni unaosaidiwa wa uwekaji wa mshikamano kuliko uwekaji wa mvuke wa joto ulioongezeka mara kadhaa hadi mamia ya mara, sababu ni hasa kutokana na mlipuko wa ioni kwenye uso wa athari ya kusafisha, ili kiolesura cha msingi cha utando kuunda muundo wa uingiliano wa gradient, au safu ya mpito mseto, na pia kupunguza mkazo wa utando.
② Uwekaji wa boriti ya ioni unaweza kuboresha sifa za mitambo ya filamu, kupanua maisha ya uchovu, unaofaa sana kwa ajili ya maandalizi ya oksidi, kabidi, ujazo wa BN, TiB: na mipako kama almasi. Kwa mfano, katika chuma kinachostahimili joto cha 1Crl8Ni9Ti, teknolojia ya uwekaji wa boriti ya ioni inayosaidiwa na boriti ili kukua 200nm SiN, filamu nyembamba, si tu inaweza kuzuia kuibuka kwa nyufa za uchovu kwenye uso wa nyenzo, lakini pia inaweza kupunguza kwa kiasi kikubwa kiwango cha uenezaji wa nyufa za uchovu, ili kupanua maisha yake ina jukumu nzuri.
③ Uwekaji unaosaidiwa na boriti ya ioni unaweza kubadilisha asili ya mkazo wa filamu na mabadiliko ya muundo wake wa fuwele. Kwa mfano, utayarishaji wa filamu ya Cr yenye 11.5keV Xe + au Ar + uwekaji wa uso wa substrate, uligundua kuwa marekebisho ya halijoto ya substrate, nishati ya ioni ya bombardment, uwiano wa kuwasili kwa ioni na atomi na vigezo vingine, vinaweza kufanya mkazo kutoka kwa mkazo wa mvutano hadi wa mgandamizo, muundo wa fuwele wa filamu pia utaleta mabadiliko. Chini ya uwiano fulani wa ioni kwa atomi, uwekaji unaosaidiwa na boriti ya ioni una mwelekeo bora wa kuchagua kuliko safu ya utando iliyowekwa na uwekaji wa mvuke wa joto.
④ Uwekaji unaosaidiwa na boriti ya ioni unaweza kuongeza upinzani wa kutu na upinzani wa oksidi wa utando. Kwa kuwa uwekaji unaosaidiwa na boriti ya ioni wa safu ya utando ni mnene, uboreshaji wa muundo wa msingi wa utando au uundaji wa hali isiyo na umbo unaosababishwa na kutoweka kwa mpaka wa chembe kati ya chembe, ambayo inachangia kuongezeka kwa upinzani wa kutu na upinzani wa oksidi wa nyenzo.
Kuongeza upinzani wa kutu wa nyenzo na kupinga athari ya oksidi ya joto la juu.
(5) Uwekaji unaosaidiwa na miale ya ioni unaweza kubadilisha sifa za sumakuumeme za filamu na kuboresha utendaji wa filamu nyembamba za macho. (6) Uwekaji unaosaidiwa na ioni huruhusu ukuaji wa filamu nyembamba mbalimbali kwenye halijoto ya chini na huepuka athari mbaya kwenye vifaa au sehemu za usahihi ambazo zingesababishwa na matibabu kwenye halijoto ya juu, kwa kuwa vigezo vinavyohusiana na uwekaji wa atomiki na upandikizaji wa ioni vinaweza kurekebishwa kwa usahihi na kwa kujitegemea, na mipako ya mikromita chache zenye muundo thabiti inaweza kuzalishwa mfululizo kwa nguvu za chini za mlipuko.
Muda wa chapisho: Machi-07-2024