① A tecnologia de deposição assistida por feixe de íons é caracterizada por uma forte adesão entre o filme e o substrato, resultando em uma camada de filme muito resistente. Experimentos demonstraram que a adesão na deposição assistida por feixe de íons é várias vezes maior, chegando a centenas de vezes maior do que na deposição térmica a vapor. Isso se deve principalmente ao efeito de limpeza promovido pelo bombardeio iônico na superfície, que leva à formação de uma estrutura interfacial com gradiente, ou camada de transição híbrida, na interface da membrana, além de reduzir a tensão na membrana.
② A deposição assistida por feixe de íons pode melhorar as propriedades mecânicas do filme, prolongar a vida útil à fadiga e é muito adequada para a preparação de revestimentos de óxidos, carbonetos, BN cúbico, TiB e materiais semelhantes a diamante. Por exemplo, no aço resistente ao calor 1CrI18Ni9Ti, o uso da tecnologia de deposição assistida por feixe de íons para o crescimento de um filme fino de SiN de 200 nm não só inibe o surgimento de trincas de fadiga na superfície do material, como também reduz significativamente a taxa de propagação dessas trincas, contribuindo para o prolongamento da sua vida útil.
③ A deposição assistida por feixe de íons pode alterar a natureza da tensão do filme e sua estrutura cristalina. Por exemplo, na preparação de um filme de Cr com bombardeio da superfície do substrato com Xe+ ou Ar+ de 11,5 keV, observou-se que o ajuste da temperatura do substrato, da energia dos íons de bombardeio, da proporção de chegada de íons e átomos e de outros parâmetros pode fazer com que a tensão passe de trativa para compressiva, e a estrutura cristalina do filme também sofrerá alterações. Sob uma determinada proporção de íons para átomos, a deposição assistida por feixe de íons apresenta melhor orientação seletiva do que a camada de membrana depositada por deposição térmica a vapor.
④ A deposição assistida por feixe de íons pode aumentar a resistência à corrosão e à oxidação da membrana. Como a camada da membrana depositada por feixe de íons é densa, a melhoria da estrutura da interface da base da membrana ou a formação de um estado amorfo causada pelo desaparecimento do contorno de grão entre as partículas contribui para o aumento da resistência à corrosão e à oxidação do material.
Aumenta a resistência à corrosão do material e resiste ao efeito oxidante da alta temperatura.
(5) A deposição assistida por feixe de íons pode alterar as propriedades eletromagnéticas do filme e melhorar o desempenho de filmes finos ópticos. (6) A deposição assistida por íons permite o crescimento de vários filmes finos a baixas temperaturas e evita os efeitos adversos em materiais ou peças de precisão que seriam causados pelo tratamento a altas temperaturas, uma vez que os parâmetros relacionados à deposição atômica e à implantação iônica podem ser ajustados com precisão e independentemente, e revestimentos de alguns micrômetros com composição consistente podem ser gerados continuamente em baixas energias de bombardeio.
Data da publicação: 07/03/2024