① La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la película y el sustrato, resultando en una capa de película muy resistente. Los experimentos han demostrado que la adhesión en la deposición asistida por haz de iones es varias veces mayor que en la deposición térmica de vapor, lo que se debe principalmente al efecto de limpieza del bombardeo iónico sobre la superficie, creando una estructura interfacial con gradiente o una capa de transición híbrida en la interfaz de la base de la membrana, además de reducir la tensión en la misma.
② La deposición asistida por haz de iones puede mejorar las propiedades mecánicas de la película, prolongar la vida útil a la fatiga y es muy adecuada para la preparación de óxidos, carburos, BN cúbico, TiB y recubrimientos tipo diamante. Por ejemplo, en el acero resistente al calor 1Crl8Ni9Ti, el uso de la tecnología de deposición asistida por haz de iones para hacer crecer una película delgada de SiN de 200 nm no solo puede inhibir la aparición de grietas por fatiga en la superficie del material, sino que también puede reducir significativamente la velocidad de propagación de las grietas por fatiga, lo que contribuye a prolongar su vida útil.
③ La deposición asistida por haz de iones puede cambiar la naturaleza de la tensión de la película y su estructura cristalina. Por ejemplo, en la preparación de una película de Cr mediante bombardeo con iones Xe+ o Ar+ de 11,5 keV sobre la superficie del sustrato, se observó que el ajuste de la temperatura del sustrato, la energía de los iones de bombardeo, la relación de llegada de iones y átomos, y otros parámetros, pueden transformar la tensión de tracción a compresión, lo que también produce cambios en la estructura cristalina de la película. Bajo una determinada relación de iones a átomos, la deposición asistida por haz de iones presenta una orientación selectiva superior a la de la capa de membrana depositada mediante deposición térmica de vapor.
④ La deposición asistida por haz de iones puede mejorar la resistencia a la corrosión y a la oxidación de la membrana. A medida que la capa de membrana depositada mediante haz de iones se vuelve más densa, la mejora de la estructura de la interfaz de la base de la membrana o la formación de un estado amorfo debido a la desaparición del límite de grano entre las partículas contribuyen a mejorar la resistencia a la corrosión y a la oxidación del material.
Mejora la resistencia a la corrosión del material y resiste el efecto oxidante de las altas temperaturas.
(5) La deposición asistida por haz de iones puede cambiar las propiedades electromagnéticas de la película y mejorar el rendimiento de las películas delgadas ópticas. (6) La deposición asistida por iones permite el crecimiento de varias películas delgadas a bajas temperaturas y evita los efectos adversos sobre los materiales o piezas de precisión que serían causados por el tratamiento a altas temperaturas, ya que los parámetros relacionados con la deposición atómica y la implantación de iones se pueden ajustar de forma precisa e independiente, y se pueden generar recubrimientos de unos pocos micrómetros con composición consistente de forma continua a bajas energías de bombardeo.
Fecha de publicación: 7 de marzo de 2024