① Teknologi pemendapan berbantukan pancaran ion dicirikan oleh lekatan yang kuat antara filem dan substrat, lapisan filem sangat kuat. Eksperimen telah menunjukkan bahawa: pemendapan berbantukan pancaran ion, lekatan daripada pemendapan wap terma meningkat beberapa kali ganda hingga ratusan kali ganda, sebabnya terutamanya disebabkan oleh pengeboman ion pada permukaan kesan pembersihan, supaya antara muka asas membran membentuk struktur antara muka kecerunan, atau lapisan peralihan hibrid, serta mengurangkan tekanan membran.
② Pemendapan berbantukan pancaran ion boleh meningkatkan sifat mekanikal filem, memanjangkan hayat lesu, sangat sesuai untuk penyediaan oksida, karbida, BN kubik, TiB: dan salutan seperti berlian. Contohnya, dalam keluli tahan haba 1Crl8Ni9Ti, penggunaan teknologi pemendapan berbantukan pancaran ion untuk mengembangkan filem nipis 200nm SiN, bukan sahaja boleh menghalang kemunculan retakan lesu pada permukaan bahan, tetapi juga boleh mengurangkan kadar resapan retakan lesu dengan ketara, untuk memanjangkan hayatnya mempunyai peranan yang baik.
③ Pemendapan berbantukan pancaran ion boleh mengubah sifat tegasan filem dan perubahan struktur kristalnya. Contohnya, penyediaan filem Cr dengan pengeboman 11.5keV Xe+ atau Ar+ pada permukaan substrat, mendapati bahawa pelarasan suhu substrat, tenaga ion pengeboman, nisbah ketibaan ion dan atom dan parameter lain, boleh menjadikan tegasan daripada tegasan tegangan kepada tegasan mampatan, struktur kristal filem juga akan menghasilkan perubahan. Di bawah nisbah ion kepada atom tertentu, pemendapan berbantukan pancaran ion mempunyai orientasi terpilih yang lebih baik daripada lapisan membran yang dimendapkan oleh pemendapan wap terma.
④ Pemendapan berbantukan pancaran ion boleh meningkatkan rintangan kakisan dan rintangan pengoksidaan membran. Memandangkan pemendapan berbantukan pancaran ion lapisan membran adalah padat, peningkatan struktur antara muka asas membran atau pembentukan keadaan amorfus disebabkan oleh kehilangan sempadan butiran antara zarah, yang kondusif untuk peningkatan rintangan kakisan dan rintangan pengoksidaan bahan.
Meningkatkan rintangan kakisan bahan dan menahan kesan pengoksidaan suhu tinggi.
(5) Pemendapan berbantukan pancaran ion boleh mengubah sifat elektromagnet filem dan meningkatkan prestasi filem nipis optik. (6) Pemendapan berbantukan ion membolehkan pertumbuhan pelbagai filem nipis pada suhu rendah dan mengelakkan kesan buruk pada bahan atau bahagian ketepatan yang akan disebabkan oleh rawatan pada suhu tinggi, kerana parameter yang berkaitan dengan pemendapan atom dan implantasi ion boleh dilaraskan dengan tepat dan bebas, dan salutan beberapa mikrometer dengan komposisi yang konsisten boleh dijana secara berterusan pada tenaga pengeboman yang rendah.
Masa siaran: 07-Mac-2024