Téhnologi Déposisi Sinar Ion

① Téhnologi déposisi dibantuan ku sinar ion dicirikeun ku adhesi anu kuat antara pilem sareng substrat, lapisan pilemna kuat pisan. Ékspérimén parantos nunjukkeun yén: déposisi adhesi dibantuan ku sinar ion langkung awét tibatan adhesi déposisi uap termal anu ningkat sababaraha kali dugi ka ratusan kali, alesanna utamina kusabab pangaruh beberesih anu disababkeun ku pamboman ion dina permukaan, supados antarmuka dasar mémbran ngabentuk struktur antarmuka gradien, atanapi lapisan transisi hibrida, ogé pikeun ngirangan setrés mémbran.

② Déposisi dibantuan ku sinar ion tiasa ningkatkeun sipat mékanis pilem, manjangkeun umur kacapean, cocog pisan pikeun nyiapkeun oksida, karbida, BN kubik, TiB: sareng lapisan sapertos inten. Salaku conto, dina baja tahan panas 1Crl8Ni9Ti dina panggunaan téknologi déposisi dibantuan ku sinar ion pikeun numuwuhkeun 200nm SiN, pilem ipis, henteu ngan ukur tiasa ngahambat munculna retakan kacapean dina permukaan bahan, tapi ogé tiasa sacara signifikan ngirangan laju difusi retakan kacapean, pikeun manjangkeun umurna gaduh peran anu saé.

③ Déposisi dibantuan ku sinar ion tiasa ngarobih sifat tegangan pilem sareng parobahan struktur kristalna. Salaku conto, persiapan pilem Cr kalayan 11.5keV Xe + atanapi Ar + bombardment permukaan substrat, mendakan yén panyesuaian suhu substrat, énergi ion bombardment, rasio kadatangan ion sareng atom sareng parameter sanésna, tiasa ngajantenkeun tegangan tina tegangan tarik ka tegangan komprési, struktur kristal pilem ogé bakal ngahasilkeun parobahan. Dina babandingan ion sareng atom anu tangtu, déposisi dibantuan ku sinar ion gaduh orientasi selektif anu langkung saé tibatan lapisan mémbran anu diendapkeun ku déposisi uap termal.

④ Déposisi dibantuan ku sinar ion tiasa ningkatkeun résistansi korosi sareng résistansi oksidasi mémbran. Kusabab déposisi dibantuan ku sinar ion dina lapisan mémbran padet, struktur antarmuka dasar mémbran ningkat atanapi formasi kaayaan amorf anu disababkeun ku ngaleungitna wates butir antara partikel, anu kondusif pikeun ningkatkeun résistansi korosi sareng résistansi oksidasi bahan.

Ningkatkeun résistansi korosi bahan sareng nolak pangaruh oksidasi suhu anu luhur.

(5) Déposisi anu dibantuan ku sinar ion tiasa ngarobih sipat éléktromagnétik pilem sareng ningkatkeun kinerja pilem ipis optik. (6) Déposisi anu dibantuan ku ion ngamungkinkeun kamekaran rupa-rupa pilem ipis dina suhu anu handap sareng nyingkahan épék négatif kana bahan atanapi bagian presisi anu bakal disababkeun ku perlakuan dina suhu anu luhur, kumargi parameter anu aya hubunganana sareng déposisi atom sareng implantasi ion tiasa disaluyukeun sacara akurat sareng mandiri, sareng palapis sababaraha mikrométer kalayan komposisi anu konsisten tiasa dihasilkeun sacara kontinyu dina énergi bombardment anu handap.