① 이온빔 증착 기술은 박막과 기판 사이의 접착력이 매우 강하고, 박막층이 매우 견고하다는 특징이 있습니다. 실험 결과, 이온빔 증착을 통한 박막의 접착력은 열 증착에 비해 수 배에서 수백 배까지 증가하는 것으로 나타났습니다. 이는 주로 이온 충격에 의한 표면 세척 효과로 인해 박막-기판 계면에 경사 계면 구조 또는 하이브리드 전이층이 형성되고, 박막의 응력이 감소하기 때문입니다.
② 이온빔 증착법은 박막의 기계적 특성을 향상시키고 피로 수명을 연장할 수 있어 산화물, 탄화물, 입방정 질화붕소(BN), TiB₂ 및 다이아몬드 유사 코팅 제조에 매우 적합합니다. 예를 들어, 1Crl8Ni9Ti 내열강에 이온빔 증착 기술을 이용하여 200nm 두께의 질화규소(SiN) 박막을 성장시키면 재료 표면의 피로 균열 발생을 억제할 뿐만 아니라 피로 균열 확산 속도를 크게 줄여 수명을 연장하는 데 효과적입니다.
③ 이온빔 보조 증착은 박막의 응력 특성과 결정 구조를 변화시킬 수 있습니다. 예를 들어, 기판 표면에 11.5keV의 Xe+ 또는 Ar+ 이온을 조사하여 Cr 박막을 제조할 때, 기판 온도, 조사 이온 에너지, 이온과 원자의 도달 비율 등의 매개변수를 조절함으로써 인장 응력을 압축 응력으로 변화시킬 수 있으며, 박막의 결정 구조 또한 변화함을 알 수 있습니다. 특정 이온 대 원자 비율에서, 이온빔 보조 증착은 열 증착법으로 증착된 막층보다 우수한 선택적 배향성을 나타냅니다.
④ 이온빔 증착은 멤브레인의 내식성 및 내산화성을 향상시킬 수 있다. 이온빔 증착으로 형성된 멤브레인 층은 치밀한 구조를 가지며, 입자 간 결정립계가 사라지면서 멤브레인 기저면 계면 구조가 개선되거나 비정질 상태가 형성되어 재료의 내식성 및 내산화성 향상에 유리하다.
재료의 내식성을 향상시키고 고온의 산화 효과에 저항합니다.
(5) 이온빔 보조 증착은 필름의 전자기적 특성을 변화시키고 광학 박막의 성능을 향상시킬 수 있다. (6) 이온 보조 증착은 원자 증착 및 이온 주입과 관련된 매개변수를 정확하고 독립적으로 조정할 수 있고 낮은 충격 에너지에서 균일한 조성을 갖는 수 마이크로미터 두께의 코팅을 연속적으로 생성할 수 있으므로 저온에서 다양한 박막을 성장시킬 수 있고 고온 처리로 인해 발생하는 재료 또는 정밀 부품에 대한 부작용을 피할 수 있다.
게시 시간: 2024년 3월 7일