Teknologi Deposisi Berkas Ion

① Teknologi deposisi berbantuan berkas ion dicirikan oleh adhesi yang kuat antara film dan substrat, lapisan film sangat kuat. Eksperimen telah menunjukkan bahwa: adhesi deposisi berbantuan berkas ion meningkat beberapa kali hingga ratusan kali lipat dibandingkan adhesi deposisi uap termal, alasannya terutama karena bombardir ion pada permukaan memiliki efek pembersihan, sehingga antarmuka dasar membran membentuk struktur antarmuka gradien, atau lapisan transisi hibrida, serta mengurangi tegangan pada membran.

② Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat meningkatkan sifat mekanik lapisan film, memperpanjang umur kelelahan, sangat cocok untuk pembuatan oksida, karbida, BN kubik, TiB: dan lapisan seperti berlian. Misalnya, pada baja tahan panas 1Crl8Ni9Ti dengan menggunakan teknologi deposisi dengan bantuan berkas ion untuk menumbuhkan lapisan tipis SiN 200nm, tidak hanya dapat menghambat munculnya retakan kelelahan pada permukaan material, tetapi juga dapat secara signifikan mengurangi laju difusi retakan kelelahan, sehingga memperpanjang umur pakainya.

③ Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat mengubah sifat tegangan film dan struktur kristalnya. Misalnya, pembuatan film Cr dengan penembakan Xe+ atau Ar+ 11,5 keV pada permukaan substrat, ditemukan bahwa penyesuaian suhu substrat, energi ion penembakan, rasio kedatangan ion dan atom, dan parameter lainnya, dapat membuat tegangan berubah dari tarik menjadi tekan, dan struktur kristal film juga akan mengalami perubahan. Pada rasio ion terhadap atom tertentu, deposisi dengan bantuan berkas ion memiliki orientasi selektif yang lebih baik daripada lapisan membran yang diendapkan dengan deposisi uap termal.

④ Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat meningkatkan ketahanan korosi dan ketahanan oksidasi membran. Karena deposisi lapisan membran dengan bantuan berkas ion bersifat padat, perbaikan struktur antarmuka dasar membran atau pembentukan keadaan amorf yang disebabkan oleh hilangnya batas butir antar partikel, yang kondusif untuk peningkatan ketahanan korosi dan ketahanan oksidasi material.

Meningkatkan ketahanan korosi material dan menahan efek oksidasi suhu tinggi.

(5) Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat mengubah sifat elektromagnetik film dan meningkatkan kinerja film tipis optik. (6) Deposisi dengan bantuan ion memungkinkan pertumbuhan berbagai film tipis pada suhu rendah dan menghindari efek buruk pada material atau bagian presisi yang akan disebabkan oleh perlakuan pada suhu tinggi, karena parameter yang terkait dengan deposisi atom dan implantasi ion dapat disesuaikan secara akurat dan independen, dan lapisan beberapa mikrometer dengan komposisi yang konsisten dapat dihasilkan secara terus menerus pada energi penembakan yang rendah.