Téhnologi déposisi Ion Beam

① Ion beam téhnologi déposisi ditulungan dicirikeun ku adhesion kuat antara film jeung substrat, lapisan pilem pisan kuat. Percobaan geus ditémbongkeun yén: ion beam ditulungan déposisi of adhesion ti adhesion of déposisi uap termal ngaronjat sababaraha kali nepi ka ratusan kali, alesan utamana alatan bombardment ion dina beungeut éfék beberesih, ku kituna antarbeungeut basa mémbran pikeun ngabentuk struktur interfacial gradién, atawa lapisan transisi hibrid, kitu ogé pikeun ngurangan stress mémbran.

② Ion beam ditulungan déposisi bisa ngaronjatkeun sipat mékanis pilem, manjangkeun umur kacapean, cocog pisan pikeun persiapan oksida, carbide, BN kubik, TiB: sarta coatings inten-kawas. Contona, dina 1Crl8Ni9Ti baja panas-tahan dina pamakéan téhnologi déposisi ion beam-ditulungan tumuwuh 200nm SiN, pilem ipis, teu ngan bisa ngahambat mecenghulna retakan kacapean dina beungeut bahan, tapi ogé bisa nyata ngurangan kacapean laju difusi retakan, pikeun manjangkeun umur na boga peran alus.

③ déposisi ion beam ditulungan bisa ngarobah alam stress film jeung parobahan struktur kristal na. Contona, persiapan pilem Cr kalawan 11.5keV Xe + atawa Ar + bombardment tina beungeut substrat, kapanggih yén adjustment tina hawa substrat, énergi ion bombardment, ion jeung atom kadatangan ratio sarta parameter séjén, bisa nyieun stress ti tensile mun stress compressive, struktur kristal pilem ogé bakal ngahasilkeun parobahan. Dina babandingan nu tangtu ion jeung atom, déposisi ion beam ditulungan boga orientasi selektif hadé ti lapisan mémbran disimpen ku déposisi uap termal.

④ Ion beam ditulungan déposisi bisa ningkatkeun résistansi korosi sarta lalawanan oksidasi mémbran. Salaku ion beam ditulungan déposisi tina lapisan mémbran téh padet, perbaikan struktur panganteur basa mémbran atawa formasi kaayaan amorf disababkeun ku ilangna tina wates sisikian antara partikel, nu kondusif pikeun ningkatna résistansi korosi sarta lalawanan oksidasi bahan.

Ningkatkeun résistansi korosi tina bahan sareng nolak pangaruh pangoksidasi suhu luhur.

(5) Ion beam ditulungan déposisi bisa ngarobah sipat éléktromagnétik pilem sarta ngaronjatkeun kinerja film ipis optik. (6) déposisi ion-ditulungan ngamungkinkeun tumuwuhna rupa-rupa film ipis dina suhu lemah sareng ngahindarkeun épék ngarugikeun kana bahan atawa bagian precision nu bakal disababkeun ku perlakuan dina suhu luhur, saprak parameter nu patali jeung déposisi atom jeung implantation ion bisa disaluyukeun akurat tur mandiri, sarta coatings sababaraha mikrométer kalawan komposisi konsisten bisa dihasilkeun kontinyu énergi bombard low.