Ion Beam Deposition Technology

① Ion beam assisted deposition technology o loʻo faʻaalia i le pipii malosi i le va o le ata ma le mea faʻapipiʻi, o le ata tifaga e malosi tele. O faʻataʻitaʻiga ua faʻaalia ai: o le faʻapipiʻiina o le faʻaogaina o le adhesion e fesoasoani i le faʻapipiʻiina o le ausa vevela na faʻateleina i le tele o taimi i le fiaselau taimi, o le mafuaʻaga e mafua ona o le osofaʻia o le ion i luga o le faʻamamaina o le aafiaga, ina ia faʻapipiʻi ai le faʻavae o le membrane e fausia ai se fausaga faʻasolosolo faʻasolosolo, poʻo le faʻafefe o le suiga, faʻapea foʻi ma le faʻaitiitia o le mamafa o le membrane.

② Ion beam assisted deposition e mafai ona faʻaleleia mea faʻainisinia o le ata, faʻalautele le ola vaivai, e fetaui lelei mo le saunia o oxides, carbide, kupita BN, TiB: ma faʻaofuofu taimane. Mo se faʻataʻitaʻiga, i le 1Crl8Ni9Ti uʻamea vevela i luga o le faʻaogaina o le faʻaogaina o tekinolosi faʻapipiʻiina o le ion beam e tupu ai le 200nm SiN, ata manifinifi, e le gata e mafai ona faʻalavelaveina le tulaʻi mai o le vaivai vaivai i luga o le mea, ae e mafai foi ona faʻaitiitia le faʻaitiitia o le faʻafefeteina o le vaivai, e faʻalautele lona ola i se matafaioi lelei.

③ Ion beam assisted deposition e mafai ona suia le natura faʻalavelave o le ata ma suiga o lona fausaga tioata. Mo se faʻataʻitaʻiga, o le sauniuniga o le ata Cr ma le 11.5keV Xe + poʻo le Ar + poʻo o le substrate surface, na maua ai o le fetuunaiga o le vevela o le substrate, le malosi o le malosi o le poma, o le ion ma le atoma o le taunuu mai o le fua faatatau ma isi taʻiala, e mafai ona faʻalavelave mai le tensile i le mamafa o le compressive, o le fausaga tioata o le ata tifaga o le a maua ai foi suiga. I lalo o se fua faatatau patino o ions i atoms, o le ion beam fesoasoani deposition e sili atu ona filifilia orientation nai lo le membrane layer teuina e le vevela vevela.

④ Ion beam fesoasoani tuʻuina e mafai ona faʻaleleia ai le faʻamaʻiina ma le faʻamaʻiina o le membrane. E pei o le ion beam fesoasoani deposition o le membrane layer e mafiafia, o le faavae o le membrane fausaga faaleleia fausaga po o le faavaeina o le tulaga amorphous e mafua mai i le mou atu o le tuaoi saito i le va o vaega, lea e fesoasoani i le faaleleia o le corrosion tetee ma oxidation tetee o mea.

Faʻaleleia le faʻafefeteina o mea ma tetee atu i le faʻamaʻiina o le vevela maualuga.

(5) Ion beam assisted deposition e mafai ona suia le eletise eletise o le ata ma faʻaleleia le faʻatinoga o ata manifinifi mata. (6) Ion-assisted deposition e mafai ai ona tupu aʻe ata manifinifi eseese i le maualalo o le vevela ma aloese mai aʻafiaga leaga i luga o meafaitino poʻo vaega saʻo e mafua mai i togafitiga i le maualuga o le vevela, talu ai o mea e fesoʻotaʻi ma le atomic deposition ma ion implantation e mafai ona fetuunai saʻo ma tutoʻatasi, ma faʻapipiʻi o ni nai micrometers ma tuʻufaʻatasiga faifaipea e mafai ona faʻaauauina le malosi i le maualalo o le pomu.