① Technológia nanášania pomocou iónového lúča sa vyznačuje silnou adhéziou medzi filmom a substrátom, pričom vrstva filmu je veľmi pevná. Experimenty ukázali, že: pri nanášaní pomocou iónového lúča sa adhézia niekoľkonásobne až stonásobne zvýšila v porovnaní s tepelným nanášaním z pár. Dôvodom je hlavne čistiaci účinok iónového bombardovania povrchu, čím sa na rozhraní membrány a jej základne vytvorí gradientná medzifázová štruktúra alebo hybridná prechodová vrstva, čím sa zníži napätie membrány.
② Nanášanie s pomocou iónového lúča môže zlepšiť mechanické vlastnosti filmu a predĺžiť únavovú životnosť, čo je veľmi vhodné na prípravu oxidových, karbidových, kubických BN, TiB: a diamantových povlakov. Napríklad pri použití technológie nanášania s pomocou iónového lúča na nanášanie tenkého filmu SiN s hrúbkou 200 nm v žiaruvzdornej oceli 1Crl8Ni9Ti nielenže zabraňuje vzniku únavových trhlín na povrchu materiálu, ale tiež výrazne znižuje rýchlosť difúzie únavových trhlín a tým predĺžuje jeho životnosť.
③ Depozícia s pomocou iónového lúča môže zmeniť charakter napätia vo filme a zmeniť jeho kryštalickú štruktúru. Napríklad pri príprave Cr filmu bombardovaním povrchu substrátu Xe+ alebo Ar+ s energiou 11,5 keV sa zistilo, že úprava teploty substrátu, energie bombardovania iónmi, pomeru príchodu iónov a atómov a ďalších parametrov môže zmeniť napätie z ťahového na tlakové, čo tiež spôsobí zmeny v kryštalickej štruktúre filmu. Pri určitom pomere iónov k atómom má depozícia s pomocou iónového lúča lepšiu selektívnu orientáciu ako membránová vrstva nanesená tepelnou depozíciou z pár.
④ Nanášanie pomocou iónového lúča môže zvýšiť odolnosť membrány proti korózii a oxidácii. Keďže membránová vrstva nanášaná pomocou iónového lúča je hustá, štruktúra rozhrania membránovej bázy alebo vznik amorfného stavu sa zlepšuje v dôsledku zmiznutia hraníc zŕn medzi časticami, čo vedie k zvýšeniu odolnosti materiálu proti korózii a oxidácii.
Zvyšuje odolnosť materiálu proti korózii a odoláva oxidačnému účinku vysokej teploty.
(5) Depozícia s pomocou iónového lúča môže zmeniť elektromagnetické vlastnosti filmu a zlepšiť výkon optických tenkých filmov. (6) Depozícia s pomocou iónov umožňuje rast rôznych tenkých filmov pri nízkych teplotách a zabraňuje nepriaznivým účinkom na materiály alebo presné súčiastky, ktoré by boli spôsobené spracovaním pri vysokých teplotách, pretože parametre súvisiace s atómovou depozíciou a iónovou implantáciou je možné presne a nezávisle nastaviť a povlaky s hrúbkou niekoľkých mikrometrov s konzistentným zložením je možné vytvárať kontinuálne pri nízkych energiách bombardovania.
Čas uverejnenia: 7. marca 2024