① A tecnologia de deposição assistida por feixe de íons é caracterizada por uma forte adesão entre o filme e o substrato, sendo a camada do filme muito resistente. Experimentos demonstraram que a adesão da deposição assistida por feixe de íons é várias vezes maior do que a adesão da deposição térmica a vapor, aumentando-se várias vezes, chegando a centenas de vezes. Isso se deve principalmente ao efeito de limpeza do bombardeamento de íons na superfície, que forma uma estrutura interfacial gradiente, ou camada de transição híbrida, na interface da base da membrana, reduzindo assim o estresse da membrana.
② A deposição assistida por feixe de íons pode melhorar as propriedades mecânicas do filme, prolongando a vida útil em fadiga, sendo muito adequada para a preparação de óxidos, carbonetos, BN cúbico, TiB e revestimentos do tipo diamante. Por exemplo, no aço resistente ao calor 1Crl8Ni9Ti, a tecnologia de deposição assistida por feixe de íons para produzir um filme fino de SiN de 200 nm não só inibe o surgimento de trincas por fadiga na superfície do material, como também reduz significativamente a taxa de difusão de trincas por fadiga, o que desempenha um papel importante na extensão da sua vida útil.
③ A deposição assistida por feixe de íons pode alterar a natureza do estresse do filme, alterando sua estrutura cristalina. Por exemplo, ao preparar um filme de Cr com bombardeamento de Xe+ ou Ar+ de 11,5 keV na superfície do substrato, descobriu-se que o ajuste da temperatura do substrato, da energia dos íons de bombardeio, da razão de chegada de íons e átomos, entre outros parâmetros, pode fazer com que o estresse passe de tração para compressão, e a estrutura cristalina do filme também sofrerá alterações. Sob uma determinada proporção de íons para átomos, a deposição assistida por feixe de íons apresenta melhor orientação seletiva do que a camada de membrana depositada por deposição térmica de vapor.
④ A deposição assistida por feixe de íons pode aumentar a resistência à corrosão e à oxidação da membrana. Como a deposição assistida por feixe de íons da camada da membrana é densa, a estrutura da interface da base da membrana melhora ou a formação de um estado amorfo é causada pelo desaparecimento do contorno de grão entre as partículas, o que contribui para o aumento da resistência à corrosão e à oxidação do material.
Aumenta a resistência à corrosão do material e resiste ao efeito oxidante de altas temperaturas.
(5) A deposição assistida por feixe de íons pode alterar as propriedades eletromagnéticas do filme e melhorar o desempenho de filmes finos ópticos. (6) A deposição assistida por íons permite o crescimento de vários filmes finos em baixas temperaturas e evita os efeitos adversos em materiais ou peças de precisão que seriam causados pelo tratamento em altas temperaturas, uma vez que os parâmetros relacionados à deposição atômica e implantação de íons podem ser ajustados com precisão e independência, e revestimentos de alguns micrômetros com composição consistente podem ser gerados continuamente em baixas energias de bombardeio.
Horário da postagem: 07/03/2024