भ्याकुम आयन कोटिंग

भ्याकुम आयन कोटिंग (जसलाई आयन प्लेटिङ भनिन्छ) संयुक्त राज्य अमेरिकामा १९६३ मा सोमडिया कम्पनी डीएम म्याटोक्सले प्रस्ताव गरेको थियो, १९७० को दशकमा नयाँ सतह उपचार प्रविधिको द्रुत विकास भएको छ। यसले भ्याकुम वातावरणमा वाष्पीकरण स्रोत वा स्पटरिङ लक्ष्यको प्रयोगलाई जनाउँछ ताकि फिल्म सामग्री वाष्पीकरण वा स्पटरिङ, वाष्पीकरण वा स्पटरिङ ग्यास डिस्चार्ज स्पेसमा कणहरूको एक भागबाट धातु आयनहरूमा आयनीकृत होस्।

यी कणहरू विद्युतीय क्षेत्रको प्रभावमा सब्सट्रेटमा जम्मा हुन्छन् जसले गर्दा पातलो फिल्म प्रक्रिया उत्पन्न हुन्छ।

धेरै प्रकारका भ्याकुम आयन प्लेटिङ, सामान्यतया आयन स्रोत उत्पादन गर्न झिल्ली सामग्री अनुसार दुई प्रकारमा विभाजन गरिनेछ: वाष्पीकरण स्रोत प्रकार आयन प्लेटिङ र स्पटरिङ लक्ष्य प्रकार आयन प्लेटिङ। पहिलेको धातु वाष्प उत्पादन गर्न फिल्म सामग्रीलाई तताएर वाष्पीकरण गरिन्छ, ताकि यो आंशिक रूपमा धातु वाष्प र ग्यास डिस्चार्ज प्लाज्माको ठाउँमा उच्च-ऊर्जा तटस्थ परमाणुहरूमा आयनीकृत हुन्छ, पातलो फिल्महरू उत्पन्न गर्न सब्सट्रेटमा पुग्न विद्युत क्षेत्रको भूमिका मार्फत; पछिल्लो भनेको फिल्म सामग्री बमबारी को सतह मा उच्च-ऊर्जा आयनहरु (जस्तै, Ar +) को प्रयोग हो जसले कणहरु बाट बाहिर निस्कने स्पटरिंगलाई ग्यास डिस्चार्जको ठाउँ मार्फत आयन वा उच्च-ऊर्जा तटस्थ परमाणुहरूमा आयनीकृत गर्न, सब्सट्रेटको सतहमा पुग्न र फिल्म उत्पन्न गर्न।

- यो लेख प्रकाशित गरिएको होभ्याकुम कोटिंग मेसिन निर्मातागुआंग्डोंग Zhenhua