ရုပ်ရှင်ဖွဲ့စည်းခြင်းကို ထိခိုက်စေသည့်အချက်များ အခန်း ၁

(၁) ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်ခြင်း။ sputtering gas သည် မြင့်မားသော sputtering အထွက်နှုန်း၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်းအား ပြတ်တောက်မှု၊ စျေးပေါသည်၊ မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရလွယ်မှုနှင့် အခြားဝိသေသလက္ခဏာများ ရှိသင့်သည်။ ယေဘူယျအားဖြင့် ပြောရလျှင် အာဂွန်သည် ပို၍ စံပြ sputtering gas ဖြစ်သည်။

(၂) Sputtering voltage နှင့် substrate ဗို့အား။ ဤကန့်သတ်ချက်နှစ်ခုသည် ရုပ်ရှင်၏ဝိသေသလက္ခဏာများပေါ်တွင် အရေးကြီးသောအကျိုးသက်ရောက်မှုရှိပြီး ဗို့အား sputtering သည် အစစ်ခံနှုန်းကို ထိခိုက်စေရုံသာမက အပ်နှံထားသော ရုပ်ရှင်၏တည်ဆောက်ပုံကိုလည်း ပြင်းထန်စွာထိခိုက်စေပါသည်။ Substrate အလားအလာသည် လူသားဆေးထိုးခြင်း၏ အီလက်ထရွန် သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းစီးဆင်းမှုကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်သည်။ အလွှာကို မြေသားထားလျှင် ၎င်းကို ညီမျှသော အီလက်ထရွန်များဖြင့် ဗုံးကြဲခြင်း၊ အလွှာအား ဆိုင်းငံ့ထားပါက၊ suspension potential V1 ၏ မြေပြင်နှင့် ဆက်စပ်သော အနည်းငယ် အနုတ်လက္ခဏာ ဖြစ်နိုင်ချေကို ရရှိရန် တောက်ပသော ထွက်လာသည့် ဧရိယာတွင် ရှိနေပြီး၊ substrate V2 ဝန်းကျင်ရှိ ပလာစမာ၏ အလားအလာသည် substrate potential ထက် မြင့်မားစေရန်၊ အီလက်ထရွန်နှင့် အပြုသဘောဆောင်သော အိုင်းယွန်းများ၏ ဗုံးကြဲခြင်းကို အတိုင်းအတာတစ်ခုအထိ တိုးမြင့်စေမည့်၊ ၎င်းသည် အခြားသော ဖလင်နှင့် အထူ၊ ရည်ရွယ်ချက်အတိုင်း၊ ဗို့အားကို အပြည့်အဝ အသုံးချပါက၊ ၎င်းသည် အီလက်ထရွန် သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းများ၏ လျှပ်စစ်လက်ခံမှု၏ ဝင်ရိုးစွန်းနှင့်အညီဖြစ်ပြီး အလွှာကို သန့်စင်စေပြီး ဖလင်၏ ကပ်ငြိမှုကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ရုံသာမက ဖလင်၏ ဖွဲ့စည်းပုံကိုလည်း ပြောင်းလဲနိုင်သည်။ ရေဒီယိုကြိမ်နှုန်း sputtering အပေါ်ယံပိုင်း၌၊ conductor အမြှေးပါးနှင့် DC ဘက်လိုက်ပြင်ဆင်မှု- dielectric အမြှေးပါးပြင်ဆင်မှုနှင့် tuning bias ။

(၃) အလွှာအပူချိန်။ အလွှာ၏အပူချိန်သည် ရုပ်ရှင်၏အတွင်းစိတ်ဖိစီးမှုအပေါ် သက်ရောက်မှုရှိပြီး၊ အပူချိန်ကြောင့် ယင်းသည် အလွှာပေါ်ရှိ အက်တမ်များ၏ လုပ်ဆောင်ချက်ကို တိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်သောကြောင့် ဖလင်၏ဖွဲ့စည်းပုံ၊ ဖွဲ့စည်းပုံ၊ ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစား၊ ပုံဆောင်ခဲတိမ်းညွှတ်မှုနှင့် မပြည့်စုံမှုကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည်။

- ဤဆောင်းပါးကိုထုတ်ဝေသည်။ဖုန်စုပ်စက်အလွှာထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua