(1) Gas percikan. Gas percikan harus mempunyai ciri-ciri hasil percikan yang tinggi, lengai terhadap bahan sasaran, murah, mudah diperoleh dengan ketulenan yang tinggi dan ciri-ciri lain. Secara amnya, argon adalah gas percikan yang lebih ideal.
(2) Voltan percikan dan voltan substrat. Kedua-dua parameter ini mempunyai kesan penting terhadap ciri-ciri filem, voltan percikan bukan sahaja mempengaruhi kadar pemendapan, tetapi juga menjejaskan struktur filem yang dimendapkan secara serius. Potensi substrat secara langsung mempengaruhi aliran elektron atau ion suntikan manusia. Jika substrat dibumikan, ia dibombardir oleh elektron yang setara; jika substrat digantung, ia berada di kawasan pelepasan cahaya untuk mendapatkan potensi yang sedikit negatif berbanding dengan pembumian potensi penggantungan V1, dan potensi plasma di sekeliling substrat V2 menjadi lebih tinggi daripada potensi substrat, yang akan menimbulkan tahap pengeboman elektron dan ion positif tertentu, mengakibatkan perubahan dalam ketebalan, komposisi, dan ciri-ciri lain filem: jika substrat sengaja menggunakan voltan bias, supaya ia selaras dengan kekutuban penerimaan elektrik elektron atau ion, bukan sahaja boleh membersihkan substrat dan meningkatkan lekatan filem, tetapi juga mengubah struktur filem. Dalam salutan percikan frekuensi radio, penyediaan membran konduktor ditambah bias DC: penyediaan membran dielektrik ditambah bias penalaan.
(3) Suhu substrat. Suhu substrat mempunyai kesan yang lebih besar terhadap tekanan dalaman filem, yang disebabkan oleh suhu yang secara langsung mempengaruhi aktiviti atom yang termendap pada substrat, sekali gus menentukan komposisi filem, struktur, saiz butiran purata, orientasi kristal dan ketidaklengkapan.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 5-Jan-2024