(1) Kasa e fe'avea'i. E tatau i le kasa e fe'avea'i ona i ai uiga o le maualuga o le sputtering yield, le inert i le mea e fa'amoemoeina, taugofie, faigofie ona maua le maualuga o le mama ma isi uiga. I se tulaga lautele, o le argon o le kasa e sili ona lelei mo le sputtering.
(2) Voltage sputtering ma le voltage substrate. O nei fa'ailoga e lua e iai se aafiaga taua i uiga o le ata tifaga, o le voltage sputtering e le gata ina a'afia ai le fua faatatau o le teuina, ae e a'afia ai fo'i le fausaga o le ata tifaga ua teuina. O le gafatia o le substrate e a'afia sa'o ai le tafe o le eletise po'o le ion o le tui a le tagata. Afai o le substrate ua fa'avaeina, e osofa'ia e electrons tutusa; afai o le substrate ua tautau, o lo'o i totonu o le eria o le glow discharge e maua ai se gafatia leaga teisi e fa'atatau i le eleele o le gafatia fa'amutaina V1, ma o le gafatia o le plasma i tafatafa o le substrate V2 e maualuga atu nai lo le gafatia o le substrate, lea o le a mafua ai se tikeri o le osofa'ia o electrons ma ions lelei, ma i'u ai i suiga i le mafiafia o le ata tifaga, tuufaatasiga, ma isi uiga: afai e fa'aogaina ma le fa'amoemoe e le substrate le voltage bias, ina ia ogatasi ma le polarity o le taliaina eletise o electrons po'o ions, e le gata e mafai ona fa'amamaina le substrate ma fa'aleleia atili le pipii o le ata tifaga, ae suia ai fo'i le fausaga o le ata tifaga. I le ufiufi sputtering leitio, o le sauniuniga o le membrane conductor fa'atasi ai ma le DC bias: o le sauniuniga o le membrane dielectric fa'atasi ai ma le tuning bias.
(3) Vevela o le substrate. E sili atu le aafiaga o le vevela o le substrate i le mamafa i totonu o le ata tifaga, ona o le vevela e aʻafia saʻo ai le gaioiga a atoms ua teuina i luga o le substrate, ma fuafua ai le tuufaatasiga o le ata tifaga, fausaga, tele o le fatu, faʻatulagaga o le tioata ma le le atoatoa.
–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua
Taimi na lafoina ai: Ianuari-05-2024