(1) Газ для распыления. Газ для распыления должен обладать такими характеристиками, как высокая эффективность распыления, инертность к материалу мишени, низкая стоимость, легкость получения высокой чистоты и другие. В целом, аргон является наиболее идеальным газом для распыления.
(2) Напряжение распыления и напряжение подложки. Эти два параметра оказывают важное влияние на характеристики пленки: напряжение распыления влияет не только на скорость осаждения, но и серьезно влияет на структуру осажденной пленки. Потенциал подложки напрямую влияет на поток электронов или ионов. Если подложка заземлена, она бомбардируется эквивалентным количеством электронов; если подложка подвешена, в зоне тлеющего разряда она получает слегка отрицательный потенциал относительно заземления (потенциал подвешенности V1), а потенциал плазмы вокруг подложки V2 выше потенциала подложки, что приведет к определенной степени бомбардировки электронами и положительными ионами, в результате чего изменятся толщина, состав и другие характеристики пленки. Если к подложке целенаправленно приложить напряжение смещения, чтобы оно соответствовало полярности электрического акцептора электронов или ионов, это может не только очистить подложку и улучшить адгезию пленки, но и изменить ее структуру. При нанесении покрытия методом радиочастотного магнетронного распыления подготовка проводящей мембраны с последующим постоянным смещением; подготовка диэлектрической мембраны с последующим настроечным смещением.
(3) Температура подложки. Температура подложки оказывает большее влияние на внутреннее напряжение пленки, поскольку температура напрямую влияет на активность осажденных атомов на подложке, тем самым определяя состав пленки, структуру, средний размер зерен, ориентацию кристаллов и неполноту.
– Данная статья опубликованапроизводитель вакуумных напыляемых машинГуандун Чжэньхуа
Дата публикации: 05.01.2024