(1) Püskürtme gazı. Püskürtme gazı, yüksek püskürtme verimi, hedef malzemeye karşı inert olma, ucuz olma, yüksek saflıkta elde edilmesinin kolay olması gibi özelliklere sahip olmalıdır. Genel olarak argon, daha ideal bir püskürtme gazıdır.
(2) Püskürtme voltajı ve alt tabaka voltajı. Bu iki parametre filmin özelliklerini önemli ölçüde etkiler; püskürtme voltajı sadece biriktirme hızını etkilemekle kalmaz, aynı zamanda biriktirilen filmin yapısını da ciddi şekilde etkiler. Alt tabaka potansiyeli, insan enjeksiyonunun elektron veya iyon akışını doğrudan etkiler. Alt tabaka topraklanmışsa, eşdeğer elektronlarla bombardımana uğrar; alt tabaka askıda ise, askı potansiyeli V1'in toprağa göre hafif negatif bir potansiyelini elde etmek için parıltılı deşarj alanında bulunur ve alt tabakanın etrafındaki plazmanın potansiyeli V2, alt tabaka potansiyelinden daha yüksek olur; bu da belirli bir derecede elektron ve pozitif iyon bombardımanına yol açarak film kalınlığında, bileşiminde ve diğer özelliklerinde değişikliklere neden olur: alt tabakaya kasıtlı olarak önyargı voltajı uygulanırsa, böylece elektronların veya iyonların elektriksel kabulünün polaritesine uygun hale gelir; bu sadece alt tabakayı arındırmak ve filmin yapışmasını artırmakla kalmaz, aynı zamanda filmin yapısını da değiştirir. Radyo frekanslı püskürtme kaplamasında, iletken membranın hazırlanması artı DC önyargı; dielektrik membranın hazırlanması artı ayar önyargısı.
(3) Alt tabaka sıcaklığı. Alt tabaka sıcaklığı, filmin iç gerilimi üzerinde daha büyük bir etkiye sahiptir; bunun nedeni sıcaklığın, alt tabakaya çökelen atomların aktivitesini doğrudan etkilemesi ve böylece filmin bileşimini, yapısını, ortalama tane boyutunu, kristal yönelimini ve eksikliklerini belirlemesidir.
Bu makale şu kuruluş tarafından yayınlanmıştır:vakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Yayın tarihi: 05 Ocak 2024