(1) Шашырататын газ. Шашырататын газ жоғары шашырату өнімділігі, нысана материалына инерттілігі, арзандығы, алу оңай жоғары тазалығы және басқа да сипаттамалары болуы керек. Жалпы алғанда, аргон ең қолайлы шашырататын газ болып табылады.
(2) Шашырату кернеуі және субстрат кернеуі. Бұл екі параметр пленканың сипаттамаларына маңызды әсер етеді, шашырату кернеуі тек тұндыру жылдамдығына ғана емес, сонымен қатар тұндырылған пленканың құрылымына да айтарлықтай әсер етеді. Субстрат потенциалы адамның инъекциясының электрон немесе ион ағынына тікелей әсер етеді. Егер субстрат жерге қосылған болса, оған эквивалентті электрондар бомбаланады; егер субстрат ілініп тұрса, ол жарқыл разряд аймағында болады, жерге қатысты V1 суспензия потенциалының аздап теріс потенциалы пайда болады, ал V2 субстратының айналасындағы плазманың потенциалы субстрат потенциалынан жоғары болады, бұл электрондар мен оң иондардың белгілі бір дәрежеде бомбалануына әкеледі, нәтижесінде пленка қалыңдығының, құрамының және басқа да сипаттамаларының өзгеруіне әкеледі: егер субстратқа электрондардың немесе иондардың электрлік қабылдау полярлығына сәйкес келетіндей етіп мақсатты түрде ығысу кернеуі қолданылса, бұл субстратты тазартып, пленканың адгезиясын күшейтіп қана қоймай, сонымен қатар пленканың құрылымын өзгерте алады. Радиожиілікті шашырату жабынында өткізгіш мембрананы дайындау және тұрақты ток ығысуы: диэлектрлік мембрананы дайындау және реттеу ығысуы.
(3) Негіз температурасы. Негіз температурасы пленканың ішкі кернеуіне көбірек әсер етеді, бұл температураның субстраттағы тұндырылған атомдардың белсенділігіне тікелей әсер етуіне байланысты, осылайша пленканың құрамын, құрылымын, орташа түйіршік өлшемін, кристалдың бағытын және толық еместігін анықтайды.
– Бұл мақала жарияланғанвакуумдық жабын машинасын өндірушіГуандун Чжэнхуа
Жарияланған уақыты: 2024 жылғы 5 қаңтар