Nā mea e pili ana i ka hoʻokumu ʻana o ke kiʻiʻoniʻoni Mokuna 1

(1) Kinoea pīpī. Pono ke kinoea pīpī i nā ʻano o ka hua pīpī kiʻekiʻe, inert i ka mea i manaʻo ʻia, makepono ke kumu kūʻai, maʻalahi ke kiʻi i ka maʻemaʻe kiʻekiʻe a me nā ʻano ʻē aʻe. Ma ke ʻano laulā, ʻo ka argon ke kinoea pīpī kūpono loa.

(2) Ka uila sputtering a me ka uila substrate. He hopena koʻikoʻi kēia mau palena ʻelua i nā ʻano o ke kiʻiʻoniʻoni, ʻaʻole wale ka uila sputtering e hoʻopilikia i ka helu deposition, akā hoʻopilikia nui hoʻi i ke ʻano o ke kiʻiʻoniʻoni i waiho ʻia. Hoʻopilikia pololei ka hiki ke substrate i ke kahe electron a i ʻole ion o ka injection kanaka. Inā hoʻokumu ʻia ka substrate, hoʻouka ʻia e nā electrons like; inā hoʻokuʻu ʻia ka substrate, aia ia ma kahi hoʻokuʻu ʻālohilohi e loaʻa ai kahi hiki maikaʻi ʻole e pili ana i ka honua o ka hiki ke hoʻokuʻu ʻia V1, a ʻo ka hiki o ka plasma a puni ka substrate V2 e ʻoi aku ka kiʻekiʻe ma mua o ka hiki ke substrate, kahi e hāʻawi ai i kahi kekelē o ka hoʻouka ʻana o nā electrons a me nā ions maikaʻi, e hopena ana i nā loli i ka mānoanoa o ke kiʻiʻoniʻoni, ka haku mele ʻana, a me nā ʻano ʻē aʻe: inā hoʻopili pono ka substrate i ka voltage bias, i kūlike me ka polarity o ka ʻae uila o nā electrons a i ʻole ions, ʻaʻole hiki ke hoʻomaʻemaʻe i ka substrate a hoʻonui i ka hoʻopili ʻana o ke kiʻiʻoniʻoni, akā hoʻololi pū i ke ʻano o ke kiʻiʻoniʻoni. I ka uhi sputtering alapine lekiō, ka hoʻomākaukau ʻana o ka membrane conductor me ka bias DC: ka hoʻomākaukau ʻana o ka membrane dielectric me ka bias tuning.

(3) Mahana o ka substrate. ʻOi aku ka hopena o ka mahana o ka substrate i ke kaumaha o loko o ke kiʻiʻoniʻoni, ma muli o ka hopena pololei o ka mahana i ka hana o nā ʻātoma i waiho ʻia ma luna o ka substrate, no laila e hoʻoholo ai i ka haku mele ʻana o ke kiʻiʻoniʻoni, ka hoʻonohonoho ʻana, ka nui o ka palaoa awelika, ke kuhikuhi kristal a me ka piha ʻole.

–Ua hoʻokuʻu ʻia kēia ʻatikala emea hana mīkini uhi hakahakaGuangdong Zhenhua