Il-kisi tal-joni bil-vakwu (imsejjaħ plating tal-joni) huwa proġett propost mill-kumpanija Somdia DM Mattox fl-Istati Uniti fl-1963, u fis-snin sebgħin kien hemm żvilupp mgħaġġel ta' teknoloġija ġdida għat-trattament tal-wiċċ. Dan jirreferi għall-użu ta' sors ta' evaporazzjoni jew mira ta' sputtering f'atmosfera ta' vakwu sabiex il-materjal tal-film jiġi evaporat jew sputtering, parti mill-partiċelli fl-ispazju tal-ħruġ tal-gass jiġu jonizzati f'joni tal-metall.
Dawn il-partiċelli huma depożitati fuq is-sottostrat taħt l-azzjoni ta' kamp elettriku biex jiġġeneraw proċess ta' film irqiq.
Il-kisi tal-joni bil-vakwu ta' ħafna tipi, ġeneralment skont il-materjal tal-membrana li jipproduċi s-sors tal-joni, se jinqasam f'żewġ tipi: kisi tal-joni tat-tip sors ta' evaporazzjoni u kisi tal-joni tat-tip mira ta' sputtering. Tal-ewwel jiġi evaporat billi jissaħħan il-materjal tal-film biex jipproduċi fwar tal-metall, sabiex ikun parzjalment jonizzat fi fwar tal-metall u atomi newtrali ta' enerġija għolja fl-ispazju tal-plażma tal-iskarika tal-gass, permezz tar-rwol tal-kamp elettriku biex jilħaq is-sottostrat biex jiġġenera films irqaq; tal-aħħar huwa l-użu ta' joni ta' enerġija għolja (eż., Ar+) fuq il-wiċċ tal-materjal tal-film bumbardjat biex jagħmel l-isputtering 'il barra tal-partiċelli mill-ispazju tal-iskarika tal-gass jonizzat f'joni jew atomi newtrali ta' enerġija għolja, biex jilħaq il-wiċċ tas-sottostrat u jiġġenera l-film.
–Dan l-artiklu ġie ppubblikat minnmanifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwuGuangdong Zhenhua
Ħin tal-posta: 07 ta' Marzu 2024