Salutan ion vakum (dirujuk sebagai penyaduran ion) adalah Amerika Syarikat pada tahun 1963 Somdia syarikat DM Mattox dicadangkan, 1970-an telah pembangunan pesat teknologi rawatan permukaan baru. Ia merujuk kepada penggunaan sumber penyejatan atau sasaran sputtering dalam suasana vakum supaya bahan filem penyejatan atau sputtering, penyejatan atau sputtering keluar daripada sebahagian zarah dalam ruang nyahcas gas terionkan menjadi ion logam.
Zarah-zarah ini dimendapkan pada substrat di bawah tindakan medan elektrik untuk menghasilkan proses filem nipis.
Penyaduran ion vakum pelbagai jenis, biasanya mengikut bahan membran untuk menghasilkan sumber ion akan dibahagikan kepada dua jenis: penyaduran ion jenis sumber penyejatan dan penyaduran ion jenis sasaran sputtering. Bekas disejat dengan memanaskan bahan filem untuk menghasilkan wap logam, supaya ia sebahagiannya terionkan menjadi wap logam dan atom neutral tenaga tinggi dalam ruang plasma pelepasan gas, melalui peranan medan elektrik untuk mencapai substrat untuk menghasilkan filem nipis; yang terakhir ialah penggunaan ion bertenaga tinggi (cth, Ar +) pada permukaan pengeboman bahan filem untuk membuat percikan keluar zarah melalui ruang nyahcas gas terion menjadi ion atau atom neutral tenaga tinggi, untuk mencapai permukaan substrat dan menghasilkan filem.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: Mac-07-2024