Vakuum-Ionenbeschichtung (och Ionenplatéierung genannt) ass eng Verbesserung, déi 1963 vun der Firma DM Mattox Somdia an den USA proposéiert gouf. An den 1970er Joren huet sech eng nei Uewerflächenbehandlungstechnologie séier entwéckelt. Et bezitt sech op d'Benotzung vun enger Verdampfungsquell oder engem Sputterziel an enger Vakuumatmosphär, sou datt d'Foliematerial duerch Verdampfung oder Sputterung en Deel vun de Partikelen am Gasentladungsraum zu Metallionen ioniséiert gëtt.
Dës Partikelen ginn ënner der Aktioun vun engem elektresche Feld um Substrat ofgesat, fir e Dënnfilmprozess ze generéieren.
Vakuumionenplattéierung gëtt vu ville Aarte gemaach, normalerweis jee no Membranmaterial, aus deem d'Ionenquell produzéiert gëtt, a zwou Zorten agedeelt: Verdampfungsquell-Ionenplattéierung a Sputter-Zil-Ionenplattéierung. Déi éischt Zort gëtt duerch d'Erhëtzung vum Filmmaterial verdampft, fir Metalldamp ze produzéieren, sou datt en deelweis a Metalldamp an héichenergetescht neutral Atomer am Raum vum Gasentladungsplasma ioniséiert gëtt, andeems en duerch d'Roll vum elektresche Feld de Substrat erreecht fir dënn Schichten ze generéieren; déi zweet Zort ass d'Benotzung vun héichenergetesche Ionen (z.B. Ar+) op der Uewerfläch vum Filmmaterial, fir d'Partikelen duerch de Raum vum Gasentladungsraum ze sputteren, déi a Ionen oder héichenergetescht neutral Atomer ioniséiert ginn, fir d'Uewerfläch vum Substrat z'erreechen an de Film ze generéieren.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 07. Mäerz 2024