Am Verglach mat Verdampfungsplattéierung a Sputterplattéierung ass déi wichtegst Eegeschaft vun der Ionenplattéierung, datt déi energesch Ionen de Substrat an d'Filmschicht bombardéieren, während d'Oflagerung stattfënnt. D'Bombardement vu geluedenen Ionen produzéiert eng Serie vun Effekter, haaptsächlech wéi follegt.
① D'Bindungskraaft (Adhäsioun) tëscht Membran a Basis ass staark, sou datt d'Filmschicht net einfach offällt wéinst dem Ionenbombardement vum Substrat, deen duerch de Sputtereffekt entsteet. Doduerch gëtt de Substrat gereinegt, aktivéiert an erhëtzt. Dëst eliminéiert net nëmmen d'Adsorptioun vum Gas op der Uewerfläch vum Substrat an déi kontaminéiert Schicht, mä och d'Oxiden op der Uewerfläch vum Substrat. D'Erhëtzung an d'Defekter vum Ionenbombardement kënnen duerch den erhéichte Diffusiounseffekt vum Substrat verursaacht ginn. Dëst verbessert souwuel d'kristallin Eegeschafte vun der Struktur vun der Uewerflächenschicht vum Substrat, mä schaaft och d'Konditioune fir d'Bildung vu Legierungsphasen. Dëst stellt och en Ionenbombardement mat méi héijer Energie duer, wat zu enger gewësser Ionenimplantatioun an engem Ionenstrahlmëscheffekt féiert.
② Ionenbeschichtung produzéiert eng gutt Bypassstralung bei méi héijem Drock (méi grouss wéi oder gläich 1 Pa). ioniséiert Gasionen oder -moleküle kënnen op hirem Wee zum Substrat, ier d'Gasmoleküle op eng Rei vu Kollisiounen treffen, sou datt d'Filmpartikelen iwwer de Substrat verstreet kënne ginn, wouduerch d'Ofdeckung vun der Filmschicht verbessert gëtt; an déi ioniséiert Filmpartikelen ginn och ënner der Wierkung vum elektresche Feld op der Uewerfläch vum Substrat mat negativer Spannung ofgesat. All Positioun op der Uewerfläch vum Substrat mat negativer Spannung kann net duerch Verdampfungsverdeelung erreecht ginn.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 12. Januar 2024