Comparata cum evaporatione et pulverisatione cathodica, praecipua proprietas pulverisationis ionicae est quod iones energetici substratum et stratum pelliculae bombardant dum depositio fit. Bombardmentum ionum oneratorum seriem effectuum producit, praecipue ut sequitur.
① Vis nexus membranae/basis (adhaesio) valida est, ita ut stratum pelliculae non facile decidat propter ionica pulverisatio substrati per effectum pulverisationis generata, ita ut substratum purgetur, activetur, et calefiat, non solum ad adsorptionem gasis in superficie substrati et stratum contaminatum removendam, sed etiam ad oxida superficialia substrati removenda. Calefactio et vitia bombardamenti ionum ob auctam diffusionem substrati causari possunt, tum ad proprietates crystallinas ordinationis strati superficialis substrati emendandas, tum ad condiciones formationis phasium mixturarum praebendas; tum ad bombardamentum ionum altioris energiae, quod etiam certam implantationem ionicam et effectum mixtionis fasciculi ionici producit.
② Obductio ionum, propter bonam radiationem praetervehendi in casu pressionis altioris (maioris quam vel aequalis 1Pa), iones vaporis ionizati vel moleculas in itinere suo ad substratum antequam moleculae gasis plures collisiones patiuntur, ita particulae pelliculae per substratum dispergi possunt, ita tegumentum pelliculae meliorando; et particulae pelliculae ionizatae etiam sub actione campi electrici in superficie substrati cum tensione negativa deponuntur. Quaelibet positio in superficie substrati cum tensione negativa est, quod per obductionem evaporationis obtineri non potest.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XII Ianuarii MMXXIV