① Technologia depositionis fasciculo ionico adiuvatae adhaesionem validam inter pelliculam et substratum distinguit, quod stratum pelliculae valde validum est. Experimenta demonstraverunt adhaesionem depositionis fasciculo ionico adiuvatae adhaesionem pluries vel centies augeri quam adhaesionem depositionis vaporis thermalis, praesertim ob effectum purgationis bombardamenti ionum in superficiem, ita ut interfacies basis membranae structuram interfacialem gradientem, sive stratum transitionis hybridum, formet, et tensionem membranae minuit.
Depositio fasciculo ionico adiuvata proprietates mechanicas pelliculae emendare et vitam lassitudinis extendere potest, et ad oxidorum, carburorum, BN cubici, TiB: et tunicarum adamantinarum praeparandarum aptissima est. Exempli gratia, in chalybe calori resistente 1Crl8Ni9Ti, technologia depositionis fasciculo ionico adiuvatae ad pelliculam tenuem 200nm SiN crescendam adhibetur, non solum apparitionem fissurarum lassitudinis in superficie materiae inhibere, sed etiam diffusionem fissurarum lassitudinis significanter reducere, et vitam eius extendere utile est.
③ Depositio fasciculo ionico adiuvata naturam tensionis pelliculae mutare potest eiusque structuram crystallinam mutari. Exempli gratia, praeparatione pelliculae Cr cum bombardamento Xe+ vel Ar+ 11.5keV superficiei substrati, inventum est adaptationem temperaturae substrati, energiae ionum bombardamenti, rationis adventus ionum et atomorum, aliorumque parametrorum, tensionem a tensione tensile ad tensionem compressivam mutare posse, structuram crystallinam pelliculae etiam mutationes producere. Sub certa proportione ionum ad atomos, depositio fasciculo ionico adiuvata meliorem orientationem selectivam habet quam stratum membranae depositione vaporis thermalis depositum.
④ Depositio fasciculo ionico adiuvata resistentiam corrosionis et resistentiam oxidationis membranae augere potest. Cum depositio fasciculo ionico adiuvata stratum membranae densum sit, structura interfaciei basalis membranae emendata est vel formatio status amorphi per evanescentiam limitis granorum inter particulas, quae ad augendam resistentiam corrosionis et resistentiam oxidationis materiae confert.
Resistentiam corrosionis materiae auge et effectum oxidantem temperaturae altae resistere.
(5) Depositio fasciculo ionico adiuvata proprietates electromagneticas pelliculae mutare et efficaciam pellicularum tenuium opticarum emendare potest. (6) Depositio ionico adiuvata incrementum variarum pellicularum tenuium temperaturis humilibus permittit et effectus adversos in materias vel partes praecisionis, quos tractatio temperaturis altis causaret, vitat, cum parametri ad depositionem atomicam et implantationem ionica pertinentes accurate et independenter adaptari possint, et obductiones paucorum micrometrorum compositione constanti continue generari possint energiis bombardamenti parvis.
Tempus publicationis: VII Kal. Mart. MMXXIV