① 이온빔 보조 증착 기술은 필름과 기판 사이의 강력한 접착력을 특징으로 하며, 필름층은 매우 견고합니다. 실험 결과, 이온빔 보조 증착의 접착력은 열 기상 증착보다 수배에서 수백 배까지 향상되었습니다. 이는 주로 이온 충격에 의한 표면 세정 효과 때문입니다. 이온 충격은 막 기저 계면에 구배 계면 구조 또는 하이브리드 전이층을 형성하여 막 응력을 감소시킵니다.
② 이온빔 보조 증착은 박막의 기계적 특성을 개선하고 피로 수명을 연장할 수 있어 산화물, 탄화물, 입방정계 BN, TiB, 다이아몬드 유사 코팅 제조에 매우 적합합니다. 예를 들어, 1Crl8Ni9Ti 내열강에 이온빔 보조 증착 기술을 사용하여 200nm 두께의 SiN 박막을 성장시키면 재료 표면의 피로 균열 발생을 억제할 뿐만 아니라 피로 균열 확산 속도를 크게 줄여 수명 연장에 큰 역할을 합니다.
③ 이온 빔 보조 증착은 박막의 응력 특성과 결정 구조를 변화시킬 수 있습니다. 예를 들어, 기판 표면에 11.5keV의 Xe+ 또는 Ar+ 이온을 충돌시켜 Cr 박막을 제조한 결과, 기판 온도, 충돌 이온 에너지, 이온과 원자의 도달 비율 및 기타 매개변수를 조정하면 인장 응력에서 압축 응력으로의 응력을 조절할 수 있으며, 박막의 결정 구조 또한 변화하는 것을 확인했습니다. 특정 이온 대 원자 비율에서 이온 빔 보조 증착은 열 기상 증착으로 증착된 멤브레인층보다 더 나은 선택적 배향성을 나타냅니다.
④ 이온빔 보조 증착은 막의 내식성과 내산화성을 향상시킬 수 있습니다. 이온빔 보조 증착은 막층이 치밀할수록 막 기저 계면 구조가 개선되거나 입자 간 결정립계가 없어져 비정질 상태가 형성되어 재료의 내식성과 내산화성이 향상됩니다.
재료의 내식성을 강화하고 고온의 산화 효과에 저항합니다.
(5) 이온빔 보조 증착은 필름의 전자기적 특성을 변화시키고 광학 박막의 성능을 향상시킬 수 있습니다. (6) 이온 보조 증착은 낮은 온도에서 다양한 박막의 성장을 허용하고 고온에서 처리함으로써 발생할 수 있는 재료 또는 정밀 부품에 대한 부정적인 영향을 피할 수 있습니다. 왜냐하면 원자 증착 및 이온 주입과 관련된 매개 변수가 정확하고 독립적으로 조정될 수 있고 일관된 구성의 수 마이크로미터 코팅이 낮은 충격 에너지에서 연속적으로 생성될 수 있기 때문입니다.
게시 시간: 2024년 3월 7일